成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战， 而 捷扬光电 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库， 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。
测量JFD-2000 膜厚检测仪 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太准确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度， 因此必须进行准确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构， 了解各层的厚度就变得极端重要。
捷扬光电 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。捷扬光电JFD-2000膜厚检测仪 能通过准确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 自主研发的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。
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