扩展ISO Class 1，内嵌N 2离子发生器型号，与10 nm型号4214兼容 即使在高纯度N 2环境下，4214型静电消除仪也支持“扩展ISO等级1,10nm”的高清洁度，并实现出色的离子平衡。
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特点 采用超低颗粒单晶硅电极。 采用独特的清洁机制，不会将颗粒释放到外部，确保稳定的长期清洁 采用不需要任何调整的智能控制电路 内置传感器不断监测离子产生，以实现可靠的静电消除 集成紧凑型设计，内置控制器和电源 自动高压关闭功能可在低流速下保护产品 超低颗粒应用的理想选择，如先进的半导体制造工艺 24 V DC驱动器 http://www.naitokikai.com/default.html 规范 输入电压 24 V DC +/- 5％6 W（典型值）。 离子平衡 <+/- 25 V 150 mm距离40 LPM无管道连接 静电消除时间 <10秒150毫米距离40 LPM无配管连接 +/- 1 kv→+/- 100 v取决于充电板显示器 离子生成方法 电晕放电型高频交流系统 清洁程度 ISO等级1,0.1微米“扩展ISO等级10nm”* 电极 单晶硅可交换 相应的吹扫气体 N 2> 99.998％ 流量 40 LPM（36.5 Kpa）至90 LPM（171 kPa） *大吹扫压力 207 Kpa（= 100 LPM流量） *高气体温度 60摄氏度 N 2吹扫连接 世伟洛克3/8“外径管道 电离N 2连接 世伟洛克1/2“外径管道连接，带1 / 4NPT内螺纹连接器或可选接头28-25710-SC 工作温度范围 15至60摄氏度 信号输出 打开/关闭触点时的报警和离子减少输出 维 长度152.4毫米x宽度72.4毫米x深度32毫米不包含 管道部分 重量 640克 外观 不锈钢 安装方法 背面M5螺丝螺丝长度小于10毫米 关于扩展ISO等级1,10纳米 ？ION Systems专门定义了清洁度的定义，以便应对精细的颗粒管理。ISO 14644-1定义为*小粒径为100 nm。扩展ISO Class1,10nm并且使用颗粒的计算公式和ISO14644-1及其允许颗粒的数目的同一允许数将是1200pc /立方米（34 PC /立方英尺 ） 至少一个粒径10nm的 http://www.naitosonic.com/
关于扩展ISO等级1,10纳米 ？ION Systems专门定义了清洁度的定义，以便应对精细的颗粒管理。ISO 14644-1定义为*小粒径为100 nm。扩展ISO Class1,10nm并且使用颗粒的计算公式和ISO14644-1及其允许颗粒的数目的同一允许数将是1200pc /立方米（34 PC /立方英尺 ） 至少一个粒径10nm的
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