SET法国进口NPS300纳米印刻步进机
用于热压印或紫外纳米压印光刻的步进和印模印刻技术是芬兰VTT技术研究��心已经验证过的创 新方法。
纳米结构的低成本生产方案正在开发中,这可能是半导体、MOEMS与光电子技术未来发展的驱动力。特别是,纳米压印光刻技术(NIL)及其变体已发展成为一种具有成本效益的技术,它可以替代高分辨率电子束光刻技术来印刷小于20纳米的几何形状。
印刻的原理是采用热或是紫外线固化工艺,使用带有纳米图案的印模对聚合物薄膜进行机械按压。带有图案的聚合物可以作为至终设备,例如成像传感器的透镜、微流控芯片、生物医学阵列等。它也可以作为一种高分辨率掩模应用于随后的工艺步骤中。
印刻是一种简单的光刻技术。它有三个基本的工艺步骤:
我们可以描述三种印刻或压印技术:热压印技术 (HEL),其使用热塑性材料;紫外纳米压印技术(UV-NIL),其使用液体抗蚀剂并在成型后用紫外光进行固化;以及软光刻技术,其使用冲压方法将预先在软印模上处理好的油墨转印到基板上。
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