真空镀膜工艺监测器 SPM 220 为镀膜工艺的定性和定量气体分析提供了**的解决方案。HiPace 涡轮分子泵组和质谱仪系统的组合加上专门开发的镀膜工艺监测器离子源，在高达 10-2 hPa 的压力下，实现了**到分钟的工艺气体分析。
普发真空还提供了一个带有压差孔板法兰的版本作为选择，使得在高达 10 hPa 的压力范围里进行直接的工艺气体分析成为了可能。
用于瞬时过程监测的镀膜工艺监测器离子源
用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的优良检测限
对测量结果的*小化背景影响
压力高达 10 hPa 的压差版本
多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估
灵活集成的紧凑尺寸
通过各种数字和模拟输入和输出，使系统集成方便而灵活
在高达 10-2 hPa 的压力下，镀膜工序的分析可**到分钟
真空镀膜系统的制造商和操作员
半导体生产
玻璃镀膜
薄膜太阳能电池发电
研发
在 1-200 amu 范围内的喷镀工艺气体分析
用于进行流程瞬时**监控的至 10-2 hPa 的 SPM 离子源
适用于 H2、O2、H2O 和 CO2 杰出探测界限
*小化的对测量结果的基础性影响
适用于灵活性集成的紧凑尺寸
适用于*高 10 hpa 的差分泵式机型
通过各种数字式和模拟式输入端与输出端实现轻便且灵活性的系统集成
多工操作实现通过一台计算机进行多个质谱仪的数据评价
SPM 220，用于压力*高 0.01 mbar 的操作压力，无**阀 SVV 040，115-230 V (PT M52 360)
SPM 220，用于压力*高 0.01 hPa 的操作压力，有**阀 SVV 040，115-230 V (PT M52 370)
SPM 220，用于压力*高 10 hPa 的操作压力，孔板法兰（差动排气），115-230 V (PT M52 380)
SPM 220，溅射工艺监测器，测量范围 1-200 amu、115-230 V、50/60 Hz，适用于压力范围 0.01 hPa > p > 1 · 10-7 hPa 内的残余气体分析，组成：
带四极电子装置 QME 220 的 PrismaPlus，带 SPM 离子源和铱长丝、氧化钇涂层的四极分析仪 QMA 200 M
带电源件 TPS 311 和用于外部访问的远程接口的系统控制系统 BRU 220
带 HiPace 80 和前级真空泵 MVP 020-3 DC 的涡轮分子泵设备
总压测量管 PKR 251
电缆组，3 米
适用于 Windows 7, XP Professional （32 位）的 Quadera®软件，用于参数化 PrismaPlus 系统，以及记录、保存并显示测量数据包括用于 Quadera®的 SPM-Software-Add-In
B
290 毫米
C
380 毫米