高压分析仪 HPA 220 是一个模块化、灵活实用的质谱仪系统，它带有一个干式涡轮分子泵组，可用于在压力高达 50 hPa 的真空中进**体分析。
根据 HPA 220 的用途，有五种不同电动气动以及手动操作的进气口阀可供选择。
由于其 5 种手动、电动气动操作的进气口选择，使得它在压力高达 50 hPa 压下为分析、监测和控制过程提供了很大的灵活性。
通过各种数字和模拟输入和输出，使系统集成方便而灵活。
多重操作允许多个质谱仪 系统只用一台电脑进行数据评估。
紧凑的尺寸实现灵活的集成。
在 1 · 10-7 至 50 hPa 的压力范围内进行真空工艺的分析、监测和控制
真空镀膜系统的制造商和操作员
半导体生产
光刻
冶金
真空炉
研发
高压分析仪——在 1-100 amu 范围内的气体分析
灵活性高，用于工艺分析、工艺监控、工艺检查的 5 个手动或电气动操作进气选项，*高 50 hpa
由多样化的数字和模拟输入输出所带来的便捷灵活的系统集成
多样化运行方式实现了通过一台 PC 即可进行多个质谱仪系统的数据分析
适用于灵活性集成的紧凑尺寸
HPA 220，用于压力*高 8 hPa 的操作压力，HPI 040 H，手动操作 (PT M51 110)
HPA 220，用于压力*高 8 hPa 的操作压力，HPI 040 P，电动气动驱动 (PT M51 120)
HPA 220，用于压力*高 1 hPa 的操作压力，双闸阀，手动操作 (PT M51 130)
HPA 220，用于压力*高 1 hPa 的操作压力，双闸阀，电动气动驱动 (PT M51 140)
HPA 220，用于压力*高 50 hPa 的操作压力，UDV 040，手动操作 (PT M51 150)
HPA 220，高压分析仪，测量范围 1-100 amu、115-230 V、50/60 Hz，适用于压力范围 8 hPa > p > 1 · 10-7 hPa 内的工艺及残余气体分析，组成：
带四极电子装置 QME 220 的 PrismaPlus，带开放式离子源和两根铱长丝、氧化钇涂层的四极分析仪 QMA 200 M
阀门界面 HPI 040 H，手动操作，连接法兰 DN 40 CF-F，带用于释放整个开口横截面的波纹管闸阀以进行高真空内的泄漏查找和残余气体分析，带用于将不同腔体压力进行压力匹配的交换式隔板的两个旁通阀，第三个隔板，0.03 mm，是提供的第三个隔板，0.03 mm，是提供的
带电源件 TPS 311 和用于外部访问的远程接口的系统控制系统 BRU 220
带 HiPace 80 和前级真空泵 MVP 020-3 DC 的涡轮分子泵设备
总压测量管 PKR 251
电缆组，3 米
适用于 Windows 7, XP Professional （32 位）的 Quadera®软件，用于参数化 PrismaPlus 系统，以及记录、保存并说明测量数据
B
290 毫米
C
380 毫米
D
415 毫米