美国Laurell Spin Coater匀胶机WS-650-23N
一、产品概述： 650型匀胶机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。MYCRO的MSC系列匀胶机具有稳定的转速和快速的启动，可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性，这正是650型匀胶机的特点。
美国Laurell Spin Coater匀胶机WS-650-23N 二、匀胶机工作原理： 匀胶机（spin coater）的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
美国Laurell Spin Coater匀胶机WS-650-23N 三、匀胶机主要性能指标： 1、腔体尺寸：241 毫米； 2、Wafer芯片尺寸：10-150mm直径的材料，方片125x125mm，小于10mm提供3mm的转接托盘）； 3、转动速度：0-12,000rpm， 4、旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空载）； 5、马达旋涂转速：稳定性能误差 < ±1%； 6、转速调节精度：<0.2rpm，重复性< 0.2rpm； 7、工艺时间设定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度； 8、匀胶机材质：NPP天然聚丙烯材质，抗腐蚀性和抗化学物性，美观大方； 9、高精度数码控制器：PLC控制，设置点精度小于0.006%。 10、程序控制：可存储20个程序段，每个程序段可以设置51步不同的速度状态； 11、分辨率：分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分，美国国家标准技术研究院（NIST）认证过的，并且无需再校准！] 12、配套真空泵系统：无油型 220~240伏交流，50/60赫兹； 13、配套分析软件：SPIN3000操作分析软件； 14、原装进口水平测试仪； 15、两袋密封圈； 16、废液接收单元；
可选配置：
OND构造为手套箱系统设计，带远程控制； IND构造为湿站系统设计，带远程控制； UD自动滴胶装置：UD-3带倒吸装置的多喷嘴可编程针筒， EBR(Edge Bead Remover)：晶圆去边，机械装置；