技术参数：
Delivery of nanoimprint templates in various materials (Si, SiNx, SiC, quartz,glass).Maximum area of the templates:4 inch with feature size of 100 nm. For smaller area, minimum feature size of 50 nm. 提供各种材料的纳米压印模板(硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃)。模板*大尺寸：4英寸，特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸，*小的特征尺寸可以达到50nm。 ? Delivery of EBL service for various structures with the feature size down to 30nm.Substrates: any conducting or non-conducting wafers. 提供*低30nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板：任何导电或者非导电晶片。 ? Micro and nanofabrications for all kinds of nanostructures in a Si, III-V, II-VI and polymers. 各种纳米结构(硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物)的微纳米加工。
主要特点：
soft mold for thermal nanoimprint 热压印的软模板
quartz mold for UV nanoimprint 紫外压印的石英模板
silicon mold for thermal nanoimprint 热压印的硅模板