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產品名稱:
500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2D
產品型號:
VTC-2D
產品展商:
MTI
產品價格:
0.00 元
簡單介紹
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗手。
500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2D的詳細介紹
技術參數
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輸入電源
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220VAC 50/60Hz, 單相
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1000W (包括真空泵）
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等離子源
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一個500W，600V的直流電源安裝在移動柜內
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磁控濺射頭
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一個 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接
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靶材尺寸: 直徑為50mm,*大厚度1.5mm
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一個快速擋板安裝在法蘭上（手動操作，見圖左3）
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濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機）
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同時可選配1英寸濺射頭
    
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真空腔體
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真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高純石英制作
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密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作，采用硅膠密封圈密封
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一個不銹鋼網罩住整個石英腔體，以屏蔽等離子體
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真空度：10-3 Torr （采用雙極旋片真空泵）
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10-5 torr （采渦旋分子泵）
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載樣臺
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載樣臺可旋轉（為了制膜更加均勻）并可加熱
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載樣臺尺寸：直徑50mm （*大可放置2英寸的基片）
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旋轉速度：1 - 10 rpm
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樣品的*高加熱溫度為700℃，控溫精度+/- 1.0℃
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真空泵
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可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統
 
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薄膜測厚儀
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一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監測薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å
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LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據
 
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外形尺寸
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質保和質量認證
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使用注意事項
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為了得到較好的金屬膜，特別是針對易氧化的金屬，如Al, Mg和Li等，必須通入高純惰性氣體（> 5N）
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強烈建議采用PPM極的氣體凈化系統（將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統過后，再導入到真空腔體內）
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我們也可在設備中安裝射頻(RF)電源，用于濺射非導電靶材，來制備非金屬薄膜
 
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