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去离子水设备在电子行业的应用：半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、化工行业、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、去离子水清洗半成品、成品。

目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。可以用两级反渗透、EDI电除盐、离子交换等工艺处理达到相应的技术要求，去离子水处理设备工艺流程大致分成以下几种：

☆采用离子交换树脂制备去离子水的传统水处理方式：原水→砂、炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→脱气→阴床→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

☆采用膜分离加离子交换方式：原水→砂、炭过滤器→精密过滤器→原水箱→RO膜分离→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

☆采用反渗透、电去离子（EDI）处理方式：原水→砂、炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

目前制备电子工业用去离子水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。

三种处理工艺的优缺点相比较如下：

☆**种采用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。

☆**种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。

☆第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子（EDI）装置，这是目前制取去离子水*经济、*环保的去离子水制取的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取去离子水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

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