产品详情
简单介绍：
开启式RTP快速升降温退火炉，是由我公司自主研发的高性能热处理设备。本产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，炉体上下两半设计，可自由打开闭合，**可靠，炉管外径150mm，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料真空吸附成型，表面涂有高反射率高温保护涂层，既能降低热量损耗，还能提高炉内温度稳定性。试验样品放置于密封的石英管内，内部洁净度高，可降低间接污染的可能。已广泛用于半导体器件研发及生产等领域，该系统可满足离子注入后的快速退火，也可用于欧姆接触快速合金，还可用于硅化物合金退火，氧化物生长，以及铜铟镓硒光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺场合。本产品采用红外加热，升温速度快达30℃/S，炉体下部配有轨道，可左右移动至底部风扇处，以达到快速冷却的目的。
详情介绍：
| RTP快速升降温退火炉 MXG1200-150-SL-RTP | ||
| 开启式RTP快速升降温退火炉，是由我公司自主研发的高性能热处理设备。本产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，炉体上下两半设计，可自由打开闭合，**可靠，炉管外径150mm，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料真空吸附成型，表面涂有高反射率高温保护涂层，既能降低热量损耗，还能提高炉内温度稳定性。试验样品放置于密封的石英管内，内部洁净度高，可降低间接污染的可能。已广泛用于半导体器件研发及生产等领域，该系统可满足离子注入后的快速退火，也可用于欧姆接触快速合金，还可用于硅化物合金退火，氧化物生长，以及铜铟镓硒光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺场合。本产品采用红外加热，升温速度快达30℃/S，炉体下部配有轨道，可左右移动至底部风扇处，以达到快速冷却的目的。 | ||
| 技术参数 | ||
| 项目 | 主要技术指标 | 数据 |
| 规格型号 | TF1200-150-SL-RTP | |
| 温度控制 | *高温度点 | 1200℃ |
| 额定温度 | 1100℃ | |
| 稳定状态温度范围 | 200-1050℃ | |
| 温度测量精度 | ±0.2℃ | |
| 温度控制重复性 | ±1℃ | |
| 温度控制**度 | ±1℃ | |
| 温度均匀性 | ±2℃ | |
| 温度状态工艺时间 | 7-32 S（200-1050℃） | |
| *快升温速率 | 30℃/S（可按需定制） | |
| 降温速率 | 1-200℃（将试样移出加热区域或通氮气可加快降温） | |
| 温度控制模式 | 智能模糊PID全闭环控制 | |
| 触摸屏 | 尺寸 | 7寸LCD 工控 |
| 物理指标 | *大功率 | 27 Kw |
| 额定电压 | AC380V，50/60Hz | |
| 测温元件型号 | K型热电偶 | |
| 石英管规格 | Φ150*1500 | |
| 真空度 | 选配分子泵真空度可达6*10-3Pa | |
| 抽气端口尺寸 | KF40或Φ6mm | |
| 进气端口尺寸 | Φ6mm | |
| 冷却方式 | 自然冷却或强迫风冷N2或压缩空气：2psi（0.14kg/cm2）– 7psi（0.5kg/cm2） | |
| 外形尺寸 | 深600*宽1520*高700 | |
| 设备重量 | 100Kg | |
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