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垂直提拉机提拉镀膜的过程

垂直提拉机提拉镀膜的过程
垂直提拉机是一种广泛应用于科研方面薄膜制备的方法。这样可以在硅片或者圆柱形基片上镀上均匀的薄膜。而在工业生产商，更多的则使用旋涂镀膜法。提拉机由在国际上SOL-GEI技术**的CHEMAT TECHNOLOGY, INC设计完成。其主要关键元器件由美国进口，整机装配由上海CHEMAT安装调试完成。DipMaster 50提拉机是专门用于薄膜制备可行性研究的镀膜工具，它采用了浸泡提拉的镀膜技术。

垂直提拉机就是把需要镀膜的基片浸入溶液中，通过预先设置的速度，在一定的温度和空气环境下将基片慢慢提拉出来。

提拉过程可以分为5个步骤：

1 浸入溶液：将基片以预先设定的速度（*好无任何抖动）侵入镀膜溶液中

2 浸泡：让基片在溶液中浸泡一定的时间，然后准备提拉

3 沉积：在提拉的过程中，薄膜会沉积在基片上。提拉的速度必须稳定，避免任何抖动。提拉速度是膜层厚度一个重要的决定因素。（提拉速度越快，膜层厚度越厚）

4 溢流：多余的溶液会在提拉的过程中从基片表面上流掉

5 挥发：溶剂从溶液中挥发掉，在基片表面上形成薄膜。易挥发的溶剂如酒精。挥发过程在沉积和溢流的过程中会同时进行。

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