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提拉涂膜机的介绍

提拉涂膜机的提拉镀膜法是一种广泛应用于科研方面薄膜制备的方法。这样可以在硅片或者圆柱形基片上镀上均匀的薄膜。而在工业生产商，更多的则使用旋涂镀膜法。

提拉涂膜机的提拉镀膜法就是把需要镀膜的基片浸入溶液中，通过预先设置的速度，在一定的温度和空气环境下将基片慢慢提拉出来。

提拉过程可以分为5个步骤：

1 浸入溶液：将基片以预先设定的速度（*好无任何抖动）侵入镀膜溶液中

2 浸泡：让基片在溶液中浸泡一定的时间，然后准备提拉

3 沉积：在提拉的过程中，薄膜会沉积在基片上。提拉的速度必须稳定，避免任何抖动。提拉速度是膜层厚度一个重要的决定因素。（提拉速度越快，膜层厚度越厚）

4 溢流：多余的溶液会在提拉的过程中从基片表面上流掉

5 挥发：溶剂从溶液中挥发掉，在基片表面上形成薄膜。易挥发的溶剂如酒精。挥发过程在沉积和溢流的过程中会同时进行。

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