EM23自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。与EM22仪器相比，该仪器采用半导体激光器作为光源，稳定性好，体积更小。 EM23仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。 EM23仪器还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。 特点: •经典消光法椭偏测量原理 仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。 •方便**的样品水平放置方式 采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。 •紧凑的一体化结构 集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便仪器使用。 •高稳定性光源 采用半导体激光器作为探测光的光源，稳定性高，噪声低。 •丰富实用的样品测量功能 可测量纳米薄膜的膜厚和折射率、块状材料的复折射率等。 •便捷的自动化操作 仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。 •**的用户使用权限管理 软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。 •可扩展的仪器功能 利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。 应用领域: EM23适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 EM23可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。 技术指标: 项目 技术指标 仪器型号 EM23 测量方式 自动测量 样品放置方式 水平放置 光源 半导体激光器，波长635nm 膜厚测量重复性* 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) 膜厚范围 透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜则与材料性质相关 折射率范围 1.3 – 10 探测光束直径 Φ2-3mm 入射角度 30°-90°，精度0.05° 偏振器方位角读数范围 0-360° 偏振器步进角 0.014° 样品方位调整 Z轴高度调节：16mm 二维俯仰调节：±4° 允许样品尺寸 圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm 配套软件 * 用户权限设置 * 多种测量模式选择 * 多个测量项目选择 * 方便的数据分析、计算、输入输出 外形尺寸 （入射角度70°时）450*375*260mm 仪器重量（净重） 15Kg
注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次的标准差。 性能保证: •ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证 •专业的仪器使用培训 •专业的椭偏测量原理课程