BX51M金相显微镜———慧龙环科
BX51M金相显微镜说明
暗视场观察法 表面安装板
暗视场可以让用户观察来自样本散射和衍射的光线。光源的光线会先穿过照明装置中的环形光学照明器件，然后在样本上聚焦。样本上的光线只是由Z 轴上的瑕疵反射形成的。因此，用户可以观测到比光学显微镜分辨极限更小的、8 nm 级的微小划痕和缺陷。暗视场适合检测样本上的微小划痕及瑕疵和检查表面光滑的样本，包括晶圆。
偏振光观察法 石棉
BX51M金相显微镜观察技术所使用的偏振光是由一组滤镜（检偏振器和起偏振器）产生的。样本特征会直接影响系统反射光的强度。该观察法适用于观察金相组织（例，球墨铸铁中石墨的生长图案）、矿物、LCD 和半导体材料。
微分干涉（DIC）观察法 磁头
DIC 是一种显微观察技术，可以将明视场观察法中无法检测到的高度差异，用增强的对比度以浮雕或三维图像的形式表现出来。该项基于偏振光的技术，拥有三个专门设计的棱镜可供选择以满足用户的需求。该观察法适用于检测高度差异极其微小的样本，包括金相组织、矿物、磁头研磨面和硬盘表面及晶圆研磨面。
荧光观察法 半导体晶圆上的颗粒
该项技术适用于观察那些在受到专门设计的滤镜（可以按照检测需要制作）照明时会发出荧光（发出不同波长的光线）的样本。该方法通过荧光染色，应用于观测半导体晶圆表面的污物、抗蚀剂的残渣和裂痕的检测。可以添加选购的复消色差光源聚光透镜系统，从而为可见光到近红外线范围内的色差进行补偿。
IR（红外线）观察法 硅晶片层下的半导体电路
对使用了硅片、玻璃等易透射红外线的电子设备的内部进行无损检测时，IR 观察十分有效。IR 物镜也可用于近红外线技术，如：拉曼光谱仪和YGA 激光修复应用。
处理滤镜 枝晶
OLYMPUS Stream 拥有各种滤镜，可用于边缘检测、平滑处理和其它操作。使用处理滤镜在拍摄的图像上进行增强和修改处理后，图像的特征变为可视化。为达到佳效果，可使用预览图检查或调整滤镜的效果。
透射光观察法 LCD彩色滤镜
对于透明样本，如，LCD、塑料和玻璃材料，可通过使用各种透射光聚光镜实现真正的透射光观察。使用透射光可以在明视场、暗视场、DIC 和偏振光中对样本进行成像和检查--所有这些都在一个便捷的系统里。
自动制作3D 图像（EFI） 硬币细节
使用BX61 或外部电动调焦单元，便可以快速地记录并组合超出焦深之外的样本的图像。只需一键操作，使用EFI 功能便可以将各个不同焦深的图像合成一幅3D 图像。终的3D数据可用于3D 观察或用于测量高度和距离。
BX51M金相显微镜详细参数:
BX51M
光学系统
UIS2光学系统（无限远校正）
机身
照明装置
反射
内装12 V 100 W光源 光量预调开关 LED电压指示
对焦单元
行程25 mm 微调旋钮1圈的微调行程为100 μm 小刻度单位为1 μm 可设聚焦粗调上限停止位置，粗调旋钮张力可调
大标本高度
65 mm（不包含臂长调节器）
观察筒
广角视场 （视场数为22）
倒置∶双目镜筒、三目镜筒、倾斜式双目镜筒 正象∶三目镜筒、倾斜式双目镜筒
超宽视场 （视场数为26.5）
倒置∶三目镜筒 正象∶三目镜筒、倾斜式三目镜筒
反射光 照明装置
明视场等
BX-RLA2 100 W卤素灯（可装高亮度光源、光纤照明装置） 明视场／暗视场／微分干涉／简易偏振光 视场光阑和孔径光阑（带中心输出机构）、明／暗视场法连动的ND滤镜
反射光 荧光
BX-URA2 100 W汞灯、75 W氙气灯 六孔分光镜组件（标准∶WB、WG、WU＋BF等） 备有视场光阑和孔径光阑（带中心输出机构）及光闸机构
透射光照明装置
-
物镜转换器
明视场用
六孔、中心输出六孔、七孔（电动物镜转换器选购件）
明／暗视场用
五孔、中心输出五孔、六孔（电动物镜转换器选购件）
载物台
带左手（右手）用同轴驱动旋钮的载物台：76 (X) × 52 (Y) mm，张力可调 带左手（右手）用同轴驱动旋钮的大型载物台：100 (X) × 105 (Y) mm，附设Y轴锁定机构
ESD性能
外形尺寸
约318（宽） × 602（长） × 480（高）mm
重量
约19.5 kg （机身约重9.8 kg）
BX51M金相显微镜，显微镜,慧龙热销
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