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产品资料

三靶磁控溅射仪

三靶磁控溅射仪
  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:三靶磁控溅射仪
  • 产品型号:VTC-600-3HD
  • 产品展商:合肥科晶
  • 产品文档:无相关文档
简单介绍
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是*新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等; VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
产品描述

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

产品概述:

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是*新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

主要特点:

l  可制备多种薄膜,应用广泛 

l  体积小,操作简便 

l  真空腔室、真空泵组整机模块化设计 ,控制电源为分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。 

l  可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪

磁控溅射头:

l  仪器中安装有3个磁控溅射头,而且都带有水冷夹层

l  其中一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材

l  另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材 

l  靶材尺寸要求:直径为50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同) 

l  可以单独订购RF连接线作为备用

l  设备包含一台水冷机,用于靶头冷却

载样台:

l  载样台尺寸:φ140mm(*大可放 置4"的基底) 

l  载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调) 

l  载样台*高可加热温度为500

真空腔体:

l  真空腔体:φ300 mm×300 mm H,采用不锈钢制作 

l  观察窗口:Φ100 mm 

l  腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

气体流量控制器:

l  仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm 

l  气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作 

l  此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)

真空系统:

l  配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作) 

l  标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar

薄膜测厚:

l  一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装 在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å

l  LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

产品外形尺寸:

l  L1300mm×W660mm H1200mm 

l  净重:160 kg

质量认证:CE认证

使用提示:

l  此设备为DIY设备,参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通 

l  为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N 

l  在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 

l  要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面 

l  超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥 (4)真空烘箱除去水分。 

l  等离子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。

l  制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如GrTiMoTa,可以应用于改善金属和合金的附着力。

警示:

l  注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体 

l  气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕

l  溅射头连接到高电压。为了**,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

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