等离子清洗机，晶圆光刻胶去除

等离子清洗机应对晶元表面的亲水改善，以及表面光刻胶的去除，等离子处理机适用于多种不同材料的应用，其主要功能是集中在湿润功能化表面。等离子清洗机为印刷、涂层、层压、喷漆和粘合剂应用提供了高度改进的粘合性能，并增强了表面的亲水性能。

等离子清洗机（Plasma Cleaner）又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、Plasma清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等场合。

通过等离子清洗机的表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂，
等离子清洗机表面处理机应用包括处理、灰化、改性、蚀刻等过程。等离子清洗机不仅能彻底除去光刻胶和其他有机物，而且能激活晶圆表面，提高晶圆表面的润湿性。聚合物、包括形状不一的槽孔和狭长的孔洞内的微粒，使用等离子清洗机都可以轻而易举清洗掉。

等离子清洗机改善了各种各样的基材上的粘合和粘合，包括塑料、FPC线路板、LED封装、橡胶、晶圆、手机玻璃、金属材料等，Silicon Wafer 晶圆表面去除光刻胶与活化，等离子清洗机的应用包括预处理、灰化/光刻胶/聚合物剥离、晶圆凸点、消除静电、介电质刻蚀、有机污染去除、晶圆减压等。使用等离子清洗机，不仅能彻底去除光刻胶等有机物，还能活化加粗晶圆表面，提高晶圆表面的浸润性，使晶圆表面更加具有粘接力。