透明导电薄膜的制造方法、以及使用而成的电子装置方法及图纸
本发明砖利技术提供一种具有优异湿热特性的透明导电薄膜、透明导电薄膜的制造方法以及使用这样的透明导电薄膜而成的电子装置。其特征在于，是在树脂基材的至少一面上具备气体阻隔层以及通过溅射法而形成的氧化锌膜的透明导电薄膜等，氧化锌膜是包含氧化锌，同时掺杂镓及铟而成的氧化锌膜，并且，相对于通过XPS的元素分析测定的锌量、镓量、氧量及铟量的总量(100atom％)，将铟量定为0.01～25atom％范围内的值，并将镓量定为0.1～10atom％范围内的值，在将初始比电阻设为ρ0，将在60℃、相对湿度95％的条件下保管500小时后的比电阻设为ρ500时，将ρ500/ρ0所表示的比率定为1.5以下的值，进一步地，将氧化锌膜的膜厚定为20～300nm范围内的值。
【技术实现步骤摘要】 【国外来华砖利技术】 本砖利技术涉及透明导电薄膜、透明导电薄膜的制造方法、以及使用透明导电薄膜而成的电子装置，尤其涉及具有优异气体阻隔性及湿热特性的透明导电薄膜、这样的透明导电薄膜的制造方法、以及使用这样的透明导电薄膜而成的电子装置。 技术介绍 以往，在具备液晶装置、有机电致发光装置(有机EL元件)的画像显示设备中，将锡掺杂氧化铟作为透明导电层的形成材料而使用的透明导电薄膜被广泛使用。另一方面，作为使用大量包含高价稀有金属铟的锡掺杂氧化铟的透明导电层的替代，已提案有使用透明性、表面平滑性优异的氧化锌的透明导电薄膜。更具体而言，提案有在有机高分子薄膜基材上形成Al2O3薄膜，并在其上形成掺杂Ga的ZnO即GZO薄膜的透明导电薄膜(例如参照砖利文献1)。另外，提案有将氧化锌作为主成分，通过浓度易调控的掺杂剂，将电阻率的降低作为目的的低电阻率透明导电体。即，提案有由氧化锌、氧化铟及氧化镓所构成的透明导电体，其为将铟及镓的元素浓度分别定为规定范围内的值的低电阻率透明导电体(例如砖利文献2)。另一方面，提案有以即使为极薄膜水平也可得到优异耐湿热特性作为目的，掺杂特定元素的透明导电性氧化锌膜。即，提案有一种透明导电性氧化锌膜，其对氧化锌，添加由Ga和/或Al所构成的**元素、以及由选自由In、Bi、Se、Ce、Cu、Er及Eu所构成的群中的至少一个所构成的**元素，其在规定的湿热试验...
【技术保护点】 一种透明导电薄膜，其特征在于，是在树脂基材的至少一面上具备气体阻隔层及通过溅射法而形成的氧化锌膜的透明导电薄膜，氧化锌膜是包含氧化锌，同时掺杂镓及铟而成的氧化锌膜，并且，相对于通过XPS的元素分析测定的锌量、镓量、氧量及铟量的总量(100atom％)，将铟量定为0.01～25atom％范围内的值，将镓量定为0.1～10atom％范围内的值，在将初始比电阻设为ρ0，将在60℃、相对湿度95％的条件下保管500小时后的比电阻设为ρ500时，将ρ500/ρ0所表示的比率定为1.5以下的值，进一步地，将氧化锌膜的膜厚定为20～300nm范围内的值。
【技术特征摘要】 【国外来华砖利技术】2014.02.07 JP 2.一种透明导电薄膜，其特征在于，是在树脂基材的至少一面 上具备气体阻隔层及通过溅射法而形成的氧化锌膜的透明导电薄膜， 氧化锌膜是包含氧化锌，同时掺杂镓及铟而成的氧化锌膜， 并且，相对于通过XPS的元素分析测定的锌量、镓量、氧量及 铟量的总量(100atom％)，将铟量定为0.01～25atom％范围内的值， 将镓量定为0.1～10atom％范围内的值，在将初始比电阻设为ρ0，将在 60℃、相对湿度95％的条件下保管500小时后的比电阻设为ρ500时， 将ρ500/ρ0所表示的比率定为1.5以下的值， 进一步地，将氧化锌膜的膜厚定为20～300nm范围内的值。 2.根据权利要求1所述的透明导电薄膜，其特征在于，在将在 所述氧化锌膜的初始比电阻设为ρ0，将在60℃、相对湿度95％的条 件下保管1000小时后的比电阻定设为ρ1000时，将ρ1000/ρ0所表示的比 率定为2.0以下的值。 3.根据权利要求1或2所述的透明导电薄膜，其特征在于，所 述树脂基材是选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、 聚碳酸酯、环烯烃类共聚物、环烯烃类聚合物、聚醚砜、及聚酰亚胺 所构成的群中的至少一种。 4.根据权利要求1至3中任意一项所述的透明导电薄膜，其特 征在于，所述气体阻隔层是选自由金属、无机氧化物、无机氮化物、 无机氧氮化物、无机碳化物、无机硫化物、无机氧氮化碳化物...
【砖利技术属性】 技术研发人员：原务，永绳智史，永元公市，
上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件 的高科技企业，公司成立２００５年，专业的光电镀膜公司，公司产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工；光学透镜、反射镜、棱镜等光学镀膜产品的开发和生产，为全球客户提供上等的产品和服务。
采用德国薄膜制备工艺，形成了一套具有严格工艺标准的闭环式流程技术制备体系，能够制备各种超高性能光学薄膜，包括红外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特种薄膜、紫外薄膜、x射线薄膜，应用领域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、医用激光器、红外制导、面部识别、VR/AR应用,博物馆，低反射橱窗玻璃，画框等。