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电子制造业的发展趋向于更小型化,高集成度
尤其体现在半导体晶圆制造中
大型硅片上的电路结构工艺日益复杂,在制造流
程中需要更细化的质量加工控制
对于新的测量工具要不断提升标准,除了要求测
量高精度和可重复性,同时要多功能化,综合性测量
这些是适应半导体技术快速发展的决定性因素。
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