微波等离子化学气相沉积系统仕嘉科技发展有限公司

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产品名称：微波等离子化学气相沉积系统
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简单介绍

1.165mm不锈刚样品室； 2.1.5kW微波等离子体源； 3.样品*大尺寸4inch 4.*高加热温度900 dgree 5.双面不锈刚反应样品室

产品描述

Woosin公司生产的MPECVD为一高效微波等离子体制备设备，可用于生长金刚石薄膜、碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生长速度快、制备温度低、性价比高等优点，已有韩国、中国(含香港地区)等许多大学与研究机构使用。
MPECVD-RA型简介：
用于金刚石薄膜与碳纳米管的生长；

MPECVD-RI型简介：
用于金刚石薄膜、碳纳米管与多种薄膜的生长；
直流等离子体CVD，射频等离子体CVD，微波等离子体CVD；
6kW微波等离子体源；
样品*大尺寸6inch
*高加热温度900 dgree
双面不锈刚反应样品室

韩国A-Tech System公司真空镀膜设备
韩国A-Tech System公司是一家专门从事真空镀膜设备的公司，公司成立于1995年2月，主要生产PVD(电子束蒸发台、磁控溅射系统等)、CVD(如PECVD)、Etching等设备。该公司可根据客户具体技术需求定制设备。

Hanvac真空镀膜设备：DC/RF磁控溅射沉积装置、OLED制备设备、PLD脉冲激光沉积设备、Laser MBE激光分子束外延设备、MOCVD有机金属化学气相沉积设备、PECVD等离子增强化学气相沉积、Thermal Wire CVD热丝化学气相沉积；
Etching System蚀刻设备：Ion Beam Etching, Reactive Ion Beam Etching, Chemically Assisted Ion Beam Etching, Inductively Couple Plasma Etching。

英国Mantis公司：为一生产高品质沉积设备与部件的高科技公司，主要有：纳米沉积源与设备；RF原子或离子源；迷你型电子束蒸发台。纳米沉积设备可制备常规镀膜设备无法实现的纳米尺寸薄膜；迷你电子束蒸发台、K-cells、热气切割与小离子或原子源可用于MBE、表面科学与PVD的极小尺度研究。
主要产品：NanoGen50纳米团簇源、MesoQ体积过滤器、NanoSys 500纳米团簇沉积设备、小型电子束蒸发台、RF离子源、原子氧/氮源等

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