箱式气氛炉

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	滑竿式三温区PECVD系统 PECVD炉 TL1200-1400-1200-H-PE-I	滑竿式三温区PECVD系统由TL1200真空立式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。滑竿式三温区PECVD系统采用双层壳体结构，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，抽真空时真空度能够达到10-3Pa。该炉安装有行程开关，当炉盖打开时会自动切断电源，有效地保证使用者的**。该炉通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。广泛应用于各种薄膜的生长。
	滑竿式单温区PECVD系统 PECVD炉 TL1200-H-PE-II	滑竿式单温区PECVD系统在传统PECVD系统基础上实现了快速加热、冷却功能，该炉底部安装了一对滑轨，可手动滑动。滑竿式单温区PECVD系统采用双层壳体结构。该炉安装有行程开关，当炉盖打开时会自动切断电源，有效地保证使用者的*。加热和冷却速率大可达100°C/min。为取得快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/S，是低成本快速热处理的理想炉。
	PECVD系统炉 PECVD炉 TL1200-H-PE-I	PECVD系统炉在传统PECVD系统基础上实现了快速加热、冷却功能，该炉底部安装了一对滑轨，可手动滑动。PECVD系统炉采用双层壳体结构。该炉安装有行程开关，当炉盖打开时会自动切断电源，有效地保证使用者的*。加热和冷却速率大可达100°C/min。为取得快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/S，是低成本快速热处理的理想炉。
	箱式气氛炉 KXF13Q-I	该系列箱式气氛炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
	真空气氛烧结炉 GF14Q-II	这款真空气氛烧结炉以硅碳棒为加热元件，真空气氛烧结炉采用双层壳体结构和30 段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封，盖板和炉门密封均采用高温硅胶 O 型圈密封，炉门处装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，经炉膛后，由炉门口处出气阀门排出，该炉有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
	气氛箱式炉 KXF16Q-II	该气氛箱式炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
	真空气氛烧结炉 KXF16Q-III	该真空气氛烧结炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
	气氛真空炉 KXF16Q-IV	该气氛真空炉炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

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