电子工业用高纯气体（2）北京盖斯化工气体中心

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产品名称：电子工业用高纯气体（２）
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气体种类规格杂质含量(ppm)
BF3 99.99% N2〈15; SO2〈50; SiF4〈20; O2〈5; S〈8
B11同位素99.9% ScottGas: 同位素纯度99.7％. N2〈25ppm; O2〈25;SO2〈25ppm; Ar〈25ppm; CO2〈25ppm; HF〈25ppm
99% Air〈1%; SO4〈10; SO2〈20; SiF4〈200
B11F3 99.5% Air〈0.5; B10〈0.5%
CO2 99.999% ScottGas: H2〈5ppm; N2〈4ppm; O2〈1ppm; CO〈0.5ppm; H2O〈1ppm; THC〈0.5ppm
99.995% ScottGas: Ar〈5ppm; H2〈5ppm; N2〈20ppm; O2〈2ppm; CO〈5ppm; CH4〈2ppm; H2O〈3ppm; 不挥发有机物〈0.1ppm(w/w)
CO 99.99% ScottGas: H2O〈5ppm; O2〈5ppm; N2〈10ppm; H2〈2ppm; CO〈15ppm; THC〈2ppm
B2H6 99.998% ScottGas: CO2〈5ppm; THC〈5ppm; N2〈10ppm; O2〈1ppm
Cl2 99.999%
99.998% CH4〈1.0; H2〈1.0; N2〈4.0; CO2〈8.0; H2O〈2.0; O2〈4.0
SiH2Cl2 99.0% Al〈1; B〈0.3; Fe〈25； As〈0.5; C〈5; P〈0.3
Si2H6 99.998% ScottGas: Ar+O2+N2〈3ppm; THC〈1ppm; CO2〈1ppm; H2O〈1ppm; 硅氧烷〈5ppm; 氯硅烷〈0.2ppm; 电阻 ohm/cm〉1,000
99.8% THC〈10; H2〈1.0;有机Si〈50； CO〈1.0; O2+Ar〈1.0; 三硅化物〈1000; CO2〈1.0; SiF4〈1000; H2〈100; 总氯〈3.0
GeH4 99.999% ScottGas: N2〈2ppm; O2〈0.5ppm; THC〈1ppm; CO2〈2ppm; CO+Trigemane〈1ppm; H2O〈1ppm; Gemoxanes〈5ppm; Chlorogermanes〈5ppm
CCl3F 99.9% CClF3 99.9%
CCl2F2 99.9% CBrF3 99.0%
H2Se 99.998% ScottGas:n2〈4ppm; O2〈1ppm;co2〈10ppm;THC〈0.5ppm;H2O〈10ppm
CF4 99.999%
99.997% CO〈1.0; N2〈20; SF6〈1.0; CO2〈1.0; O2+Ar〈5.0; 总氟化物〈0.1; H2O〈0.5; 卤代烃〈2.0
CHF3 99.996% ScottGas: N2〈15ppm; O2〈5ppm; Acidity〈0.1ppmw; CO2〈10ppm; H2O〈5ppm
99.99% ScottGas: N2〈50ppm; O2〈10ppm; Acidity〈0.1ppmw; CO2〈10ppm; H2O〈5ppm
99.95% Air〈100; H2O〈10; HCl〈0.1
CHClF2 99.9% CHCl2CF3 99.0% CHClF-CF3 99.0%
CHF2-CF3 99.0% CH2FCH3 99.0% C2H3ClF2 98.0%
CH2F2 99.99% ScottGas: N2〈40ppm; O2〈10ppm; H2O〈10ppm; 酸性物〈0.1ppmw;
CH3F 99.99% ScottGas: N2〈80ppm; O2〈20ppm; H2O〈10ppm;
99.9% ScottGas: N2〈400ppm; O2〈100ppm; H2O〈20ppm;
C2ClF5 99.5%

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