日本SHINKO伸兴超神波高速清洁设备成都代理

3ミクロン以上の粉塵の除去 エッジ部の除塵等に*適 CCD、C-MOS、ICパッケージ、LCDモジュール等用 特長 従来比10倍の高圧超音波エアーを使用することで、より微細で固着質のダストやガラスカレットに対して有効で、3ミクロン以上の粉塵の除去エッジ部の除塵などに*適です。 クリーナヘッドのサイズがW84xD80xH55とコンパクト設計です。(有効長:10mm) 除塵原理 除塵テスト及びその結果 社内クリーンルーム（クラス100）内でのテスト結果です。 テスト条件 ●基材： 液晶用ガラス基板 ●粉塵： 3μmスペーサビーズ（ドライ散布） ●吐出空気圧力： 0.1Mpa ●基材とのギャップ： 約1.5mm ●評価方法： 表面検査装置（GI-4600）

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