ULVAC爱发科 - 重庆内藤机械设备有限公司

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CVD设备 | 溅射设备

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	ULVAC单晶片等离子CVD设备（重庆内藤） CMD-1800	通过为每个单元开发可以在比常规过程温度更高的温度下运行的驱动系统和真空传输机器人，已经实现了稳定的传输系统。 ULVAC爱发科间歇式溅射设备（重庆内藤） ULVAC爱发科间歇式溅射设备（重庆内藤） ULVAC爱发科间歇式溅射设备（重庆内藤）
	ULVAC爱发科多室溅射设备（重庆内藤） MLX -3000N	支持*大200 mm的板子尺寸通过消除污染和高精度温度控制来控制薄膜质量灵活的工艺支持，例如铝嵌入，厚膜和层压 ULVAC爱发科间歇式溅射设备（重庆内藤） ULVAC爱发科间歇式溅射设备（重庆内藤） ULVAC爱发科间歇式溅射设备（重庆内藤）

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