特征 支持*大200 mm的板子尺寸 通过消除污染和高精度温度控制来控制薄膜质量 灵活的工艺支持，例如铝嵌入，厚膜和层压 采用 金属化以半导体布线为中心 规范 模型 MLX TM -3000N 设备配置 运输系统 六角形真空传输室x 1间 模组 L / UL室x 2（或L / UL室x 1 +脱气室x 1）+*多4个处理室 板子尺寸 兼容Φ75mm-200mm 转移机器人 双选真空输送机器人 控制系统 PC控制 采用 功率设备（正面和背面），UBM，安装设备，不规则形状的基板 排气系统 主排气 LL室：干泵 输送室：涡轮分子泵 处理室：低温泵 粗拉 干泵 可安装的过程气体系统 *多3个系统 到达压力 运输室：1.3 E-4Pa 处理室：1.0 E- 5Pa 电的 50Hz / 60Hz，3Φ，200V 冷却水 0.2-0.3MPa，温度20-25ºC，100L / min 所需气体 各种工艺 气体：0.05-0.1MPa N2气体：0.05-0.1MPa 压缩的空气 0.55〜0.75MPa 接地工作 A类接地 选项 Φ75mm〜200mm可变晶片 快门机制 静电吸盘式基板加热机构 RGA：奎莉 增加LL室涡轮分子泵
渝公网安备 50019002501360号
