它是用于EUV暴露的EUV POD的全自动清洁装置,这是新的曝光技术。除了拆卸/重新组装内部POD和外部POD之外,每个POD都使用单独的专用CH进行清洁/干燥。 完全无人值守的操作也是可能的。 采用独特的清洁/干燥技术实现纳米级颗粒去除30年,作为半导体设备容器清洁设备制造商。
-足迹设计 ,专有清洗技术通过超精密清洗 和高效的干燥系统完全干燥实现通过 ,全自动POD开放的交叉污染预防由 -RSP200兼容 机器人手自清洁系统内置 -独立专用室**
渝公网安备 50019002501360号