二、技术参数:
▲1.保护气体装置:旋涂过程中对旋转马达气流保护(可选择取消);
2.支持Wafer尺寸:直径10-150mm,方片125x125mm,无需更换片托(可选3mm,5mm托盘);
3. 设备材质:全部采用易清洁的NPP天然聚丙烯材质,环保,抗震,耐腐蚀;
▲4.无刷马达:直流双向旋转,正反旋转速度0~±12000rpm,稳定性能误差±1rpm;
5.马达**模式:可设置非真空模式,转速3000rpm,加速度500rpm/s;
6.加速度:65535rpm/S(空载),32767rpm/S(负载 参考:100mm直径标准晶圆片);
7.工艺时间:每步可以设定45小时29分钟10秒,精度0.1秒;
8. PLC控制:4.3寸全彩触摸屏PLC可编程的控制器;
9.程序段:可存储99个程序段,每个程序段可设置50个不同步骤的速度状态;
10.无油真空泵:220V/50Hz;真空吸附范围25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可调节;
11.扩展功能: 可升级预留端口,可扩展自动滴胶装置、自动去边装置、手动去边等选配项。
三、设备性能特点:
马达控制:无刷直流双向旋转;
智能程控:控制器可拆卸,4.3寸全彩触屏,配有智能触碰笔,按键有提示音,选中有颜**分,适用于手套箱;
腔体材质:易清洁的NPP天然聚丙烯材质,抗腐蚀性;
模式切换:可自由切换单步模式、多步模式和曲线分析图;
水平调节:设备垫脚可调节水平;
防止堵胶:双真空腔设计;
预留端口:可升级扩展其他多种选配项;
密码功能:设有开机密码和管理员密码,管理员有权限修改核心参数;
**报警:系统盖板嵌锁、真空异常、通气异常、系统进胶、马达转速异常均会报警,通过声音和界面对话框提示;
气流保护:旋涂过程中对马达气流保护(也可选择取消),易维护,易清洁,大幅提高马达使用寿命;
四、应用领域:
• 半导体芯片制造
• 钙钛矿太阳能电池制备
• 微纳和微流控
• 纳米薄膜
• 高分子材料
• 有机光伏
• 有机发光二极管
• 有机场效应晶体管&薄膜晶体管
• 石墨烯&二维材料
主营产品:
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统,湿站系统