二、技术参数：
▲1.保护气体装置：旋涂过程中对旋转马达气流保护（可选择取消）；
2.支持Wafer尺寸：直径10-150mm，方片125x125mm，无需更换片托（可选3mm，5mm托盘）;
3. 设备材质：全部采用易清洁的NPP天然聚丙烯材质，环保，抗震，耐腐蚀；
▲4.无刷马达：直流双向旋转，正反旋转速度0~±12000rpm，稳定性能误差±1rpm；
5.马达**模式：可设置非真空模式，转速3000rpm，加速度500rpm/s；
6.加速度：65535rpm/S（空载），32767rpm/S（负载 参考：100mm直径标准晶圆片）；
7.工艺时间：每步可以设定45小时29分钟10秒，精度0.1秒；
8. PLC控制：4.3寸全彩触摸屏PLC可编程的控制器；
9.程序段：可存储99个程序段，每个程序段可设置50个不同步骤的速度状态；
10.无油真空泵：220V/50Hz；真空吸附范围25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可调节；
11.扩展功能： 可升级预留端口，可扩展自动滴胶装置、自动去边装置、手动去边等选配项。
三、设备性能特点：
马达控制：无刷直流双向旋转；
智能程控：控制器可拆卸，4.3寸全彩触屏，配有智能触碰笔，按键有提示音，选中有颜**分，适用于手套箱；
腔体材质：易清洁的NPP天然聚丙烯材质，抗腐蚀性；
模式切换：可自由切换单步模式、多步模式和曲线分析图；
水平调节：设备垫脚可调节水平；
防止堵胶：双真空腔设计；
预留端口：可升级扩展其他多种选配项；
密码功能：设有开机密码和管理员密码，管理员有权限修改核心参数；
**报警：系统盖板嵌锁、真空异常、通气异常、系统进胶、马达转速异常均会报警，通过声音和界面对话框提示；
气流保护：旋涂过程中对马达气流保护（也可选择取消），易维护，易清洁，大幅提高马达使用寿命；
四、应用领域：
• 半导体芯片制造
• 钙钛矿太阳能电池制备
• 微纳和微流控
• 纳米薄膜
• 高分子材料
• 有机光伏
• 有机发光二极管
• 有机场效应晶体管&薄膜晶体管
• 石墨烯&二维材料
主营产品：
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统，湿站系统