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产品资料

椭偏仪

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  • 产品名称:椭偏仪
  • 产品型号:EM01-PV-III激光椭偏仪
  • 产品展商:其它品牌
  • 产品文档:无相关文档
简单介绍
激光椭偏仪:单晶、多晶及各种薄膜太阳能电池的折射率和膜厚测量领域,既适合科研院所研究使用,亦适合工厂进行工艺研究分析和产线上产品检测,激光椭偏仪家族的传统领域,包括半导体、集成电路、微电子、光学镀膜、医学与生命科学、电化学、平板显示领域、磁介质存储、聚合物、新材料、金属处理等
产品描述
 EM01-PV-III激光椭偏仪

EM01-PV-III激光椭偏仪特点:

1.一体化样品台技术,兼容测量单晶和多晶太阳电池样品
2.新型样品调节技术,有效提高样品定位精度高
3.独特的噪声处理方法,显著增强信噪比
4.新型光电增强技术,显著降低生产现场噪声对结果的影响
5.增加现场供电检测和调节功能,适应更加复杂的供电环境
6.多种测量模式选择,适合对不同精度要求的场合
7.多线程软件结构,提高用户体验

EM01-PV-III激光椭偏仪应用领域:
    单晶、多晶及各种薄膜太阳能电池的折射率和膜厚测量领域,既适合科研院所研究使用,亦适合工厂进行工艺研究分析和产线上产品检测以及EM01系列激光椭偏仪家族的传统领域,包括半导体、集成电路、微电子、光学镀膜、医学与生命科学、电化学、平板显示领域、磁介质存储、聚合物、新材料、金属处理等。
EM01-PV-III性能保证:
1.高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法以及低噪声探测技术,保证了系统的高稳定性和高准确度;
2.高精度的光学自准直望远系统,保证了快速、高精度的样品方位对准;
3.稳定的结构设计、可靠的样品方位对准,结合先进的采样技术,保证了快速、稳定测量;
4.分立式的多入射角选择,可应用于复杂样品的折射率和**厚度的测量;
5.一体化集成式的仪器结构设计,使得系统操作简单、整体稳定性提高,并节省空间;
6.专用软件方便太阳能电池测试和建模。

EM01-PV-III激光椭偏仪技术指标:

激光波长

632.8nm (He-Ne laser)

膜层厚度精度

0.01nm (对于Si基底上110nm的SiO2膜层)

0.05nm (对于绒面Si基底上80nm的Si3N4膜层)

折射率精度

1x10-4  (对于Si基底上110nm的SiO2膜层)

5x10-4  (对于绒面Si基底上80nm的Si3N4膜层)

光学结构

PSCA

激光光束直径

<1mm

入射角度

40°-90°可选,步进5°

样品方位调整

三维平移调节:±12.5mm(X-Y-Z三轴)

二维俯仰调节:±4°

光学自准直系统对准

样品台尺寸

Φ170mm

单次测量时间

0.2s

推荐测量范围

0-2000nm

*大外形尺寸(长x宽x高)

887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)

仪器重量(净重)

25Kg

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