德国BUSCH废气处理系统
普旭真空为半导体、LCD及相关行业提供了应用广泛的新一代废气处理系统。高效的废气处理技术提供净化到阈限值以下的气体，同时满足现有的和发展中的要求。
产品型号
Technology
Model
Capacity（SLM）
Applications
Gas
Flameless Catalytic
（AFC）
AFC 0500A
500
PE-CVD,
HDP-CVD,
ALD(NF3),
AMOLED 6G CVD
Flammable gases，water-soluble gases
AFC 2000A
2000
Wet-Plasma-Wet（APW）
APW 0500A
etch for PFCs
Burn-Wet
（ABW)
ABW 0500A
CVD,etch for PFCs
Thermal-Wet
（ATW)
ATW 0500A
ALD,CVD,DIEF
ATW 1000A
1000
ALD,CVD,DIFF,LCD
ATW 3500A
3500
MO-CVD,EPI,
LCD(7G)
ATW 4000A
4000
LCD(>8G)
Wet(AWE)
AWE 0500A
metal etch
water-soluble gases
AWE 0500AE
EPI(DCS,TCS)
Semi-Dry
(ASD)
ASD 0800A
800
etch for cost-saving
无焰催化处理技术（AFC）
AFC是结合了无焰催化热氧化和湿法处理技术的高温催化剂系统。用于 集成到高效单一系统中，旨在减少易燃，水溶性气体并使NF3可容纳高达3000SLM的高气流。
技术特点：
››在半导体应用和AMOLED流程中（使用大量生成气体和NF3的粉末）非常适合CVD工艺（使用NF3作为吹扫气体）。
››金属蚀刻应用的上佳解决方案。
››由于电加热器和废气反应热，催化剂区域始终保持高温，而没有燃烧额外的燃料（LNG）。
››减少NOx生成
››粉末和水溶性气体被捕获在多级润湿区中
››降低了运行成本
››易于维护和滤芯更换
››触摸屏显示
湿法-等离子-湿法处理技术（APW）
APW是一个集成于单一系统的湿法-等离子-湿法处理技术的组合，是氧化物和多晶硅蚀刻工艺应用的理想选择。
››新湿法等离子分离设计
››耐用的反应堆等离子炬和电源设计
››具有高气体DRE（％）的稳定性能
››在废气进入等离子反应器之前，先将副产物和水溶性气体进行预湿区去除
››有效减少CF4，C2F6，SF6等PFCs
››核心零件的使用寿命长和维护周期
››易于清洁和预防性维护
燃烧-湿法处理（ABW）
ABW是集成于单一系统中燃烧和湿法处理技术的组合，旨在有效减少PFCs，是CVD和蚀刻工艺应用的理想选择。
››新快速燃烧湿室分离设计
››多个**联锁
››燃烧室带有水冷壁机制的湍流火焰
››燃烧过程中可能产生的粉末和水溶性气体被捕获在多级润湿区
››性能稳定
››运行成本低
热式-湿法处理技术（ATW）
ATW将电热和湿法处理技术结合在一个系统中，该系统旨在容纳高达4000 SLM的总气流，是重粉生成和腐蚀性应用的理想选择。
››新快速热湿室分离设计
››两种减排方法的组合，即热湿法（通过易燃和发火性气体的无焰热氧化改变工艺气体的化学性质）和水溶解（对于水溶性气体）
湿法处理技术（AWE）
AWE湿式洗涤器是适应高H2和金属粉末生成应用的理想选择。
››金属蚀刻应用的上佳解决方案
››极高的**性和正常运行时间
››四个独立的反应室，配备智能入口防止堵塞功能和强大的文丘里管装置
››内置水循环系统
››降低了运营成本
杭公网安备 33010502004916号
