X-5000 ROHS检测仪

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产品名称：X-5000 ROHS检测仪
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简单介绍

X-5000是一种体现X射线荧光分析技术*新进展的能量色散X射线荧光光谱仪。它采用低功率小型X光管为激发源，电制冷硅半导体探测器为探测单元，再加上我公司专门开发的应用软件，充分发挥各部件的优异性能，保证了整台仪器的高分辨率及通用适应性。任何需要多元素同时分析的地方，正是它大有作为之处。

产品描述

产品详情：

X-5000是一种体现X射线荧光分析技术*新进展的能量色散X射线荧光光谱仪。它采用低功率小型X光管为激发源，电制冷硅半导体探测器为探测单元，再加上我公司专门开发的应用软件，充分发挥各部件的优异性能，保证了整台仪器的高分辨率及通用适应性。任何需要多元素同时分析的地方，正是它大有作为之处。下面将该仪器的资料作简单介绍。

整机技术规格：

激发源：本机采用低功率 X 射线管（Mo靶），*高电压可达50KV，*大电流1mA

高压电源：*大50W，50KV，1mA

探测器：电制冷 Si PIN半导体探测器（⁵⁵Fe的能量为5.9Kev的MnKα线，分辨率优于149eV）

多道分析器：2048道

软件：基于WINDOWS的强大工作软件。定量分析包括：经验系数法，理论a系数法和基本参数法。定性分析包括：KL线标记，谱图比较和光标寻峰等。客户可进行二次开发，自行开发任意多个分析方法。

电源：交流220V 50Hz

体积：520mm x 600mm x 270mm

重量：约 42kg （主机）

整机技术性能：

测量元素范围宽：从铝（13）至铀（92）都可测量

测量含量范围，从ppm至100%

测量速度快，通常为几十秒到几分钟

多元素同时定性定量

蜂位漂移：八小时小于1%

进口探测器的性能指标：

探测器类型：电制冷Si-PIN

探测面积：2.4x2.8mm（7mm²）

硅活化区厚度：300um

探测器分辨率：对于⁵⁵Fe，@5.9keV 对于12us的形成时间，半高宽为149Ev

探测器窗口：铍窗，25um厚

进口高压电源规格：

电压和电流从零至满量程连续可调，*大50KV，1mA

电压调整率：负载调整率：从空载到满载，电压变化为满量程的 0.01 %

线性调整率：对于规定的输入电压范围，该数值为满量程的0.01%

电流调整率：负载调整率：从空载到满载，电流变化为满量程0.01%

线性调整率：对于规定的输入电流范围，该数值为满量程的0.01%

稳定性：经过半小时预热后，每8小时变化不超0.05%

温度系数：温度变化一度，电压变化不超过0.01%

详细参数：

定量测量范围：Pb，Hg，Cr，Cd，Br

测量精度：低于100ppm时**度15ppm，大于100ppm时，**度15%

分析元素：Pb，Hg，Cr，Cd，Br

检出限： Pb：3.2 mg/kg （ppm）

Hg：3.2 mg/kg （ppm）

Cr：4.1 mg/kg （ppm）

Cd：5.8 mg/kg （ppm）

Br：3.1 mg/kg （ppm）

测量时间：30秒——120秒可选

X射线源：X光管

工作环境温度：10℃——45℃

工作环境湿度：20%——80%

高压器：50Kv

操作系统：windows XP

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