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化学气相沉积设备(CVD、PECVD、LPCVD等
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带有预热系统的滑动PECVD
OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款双温区的PE-CVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉,预热炉(作用为使固体原料蒸发)和德国进口的无油泵。此款PE-CVD对于生长纳米线或用CVD,方法来制作各种薄膜是一款新的探索工具。
1700℃单温区三通道混气CVD系统
GSL-1700X-F3LV是一款CE认证的管式炉CVD系统,其真空泵采用双旋片式,混气系统采用三路浮子供气系统,*高温度可以达到1700°C,真空度可达到5x10-2 torr ,可以混合1-3种气体。
三温区三通道混气CVD系统
三温区三通道混气CVD系统是一款通过CE认证的三温区管式炉CVD系统,其炉管直径为60mm,其真空泵采用双旋机械泵,混气系统为3路浮子混气系统。此高温炉烧结温度可达1700℃,真空度可达到5x10-2 torr ,可以混合1-3种气体。
九通道混气高真空CVD系统
九通道混气高真空CVD系统GSL-1700X-80-HVC9 is CE certified 80mm diameter alumina tube furnace with vacuum pump system (up to 10-5 torr) and 9 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases f
1700°C二通道混气高真空CVD系统-GSL-1700X-4-HVC
GSL-1700X-4-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统,其炉管直径为4英寸,它是由二路质子混气系统和高真空机组组成,其*高工作温度可达1600℃,极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行**的混气,然后导入到管式炉内部。
多通道质量控制高真空PECVD管式炉系统
为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD) 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000环境体系的要求),不会造成环境污染; 该产品符合含采购商OHSMS18000职业**健康管理体系标准的要求,不会对接触产品的人员健康造成伤害!
1200℃Mini型 2通道CVD系统
OTF-1200X-S50-2F迷你型CVD管式炉,是一款通过CE认证的可开启式管式炉,能使样品加热到1200℃。左法兰上安装一个数字式真空显示计,右法兰上安装有一KF-25接口,可以与机械泵相连接(抽速为226L/m)。同时左法兰上安装有φ6.35的卡套接头,使得炉体可与两路混气系统相连接。精-确的控温系统提供30段升温和降温程序,其控温精-确度为+/- 1 ℃ 。
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