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产品名称:
300W射频等离子磁控溅射镀膜仪
产品型号:
VTC-2RF
产品展商:
MTI
产品价格:
0.00 元
简单介绍
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
300W射频等离子磁控溅射镀膜仪的详细介绍
技术参数
输入电源
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220VAC 50/60Hz, 单相
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800W (包括真空泵)
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等离子源
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一个300W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内
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磁控溅射头
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一个 2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接
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靶材尺寸: 直径为50mm,*大厚度6.35mm
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一个快速挡板安装在法兰上(手动操作,见图左3)
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溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机)
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同时可选配1英寸溅射头
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真空腔体
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真空腔体:160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H,采用高纯石英制作
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密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作,采用硅胶密封圈制作
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一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体
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真空度:10-3 Torr (采用双极旋片真空泵)
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10-5 torr (采涡旋分子泵)
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载样台
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载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热
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载样台尺寸:直径50mm (*大可放置2英寸的基片)
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旋转速度:1 - 10 rpm
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样品的*高加热温度为700℃,控温精度+/- 1.0℃
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真空泵
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可选用直联式双极旋片泵,也可选用德国制作的分子泵系统
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薄膜测厚仪
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一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监控薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å
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LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据
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外形尺寸
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质保和质量认证
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使用注意事项
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这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
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为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次,可将真空腔体中的氧含量减少到10PPM
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请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
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