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产品图片	产品名称/型号	产品简单介绍
	GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪	GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300Å，特别适用于SEM样品的镀膜。
	GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪	GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的*简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。
	500W直流等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2D	VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜，它是一款物美价廉的实验手。
	300W射频等离子磁控溅射镀膜仪	VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
	OTF-1200X-RTP-II 快速蒸发管式炉	OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸发管式炉，专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。此款管式炉炉管直径为11" OD，炉管内载样盘可放置3" 的圆形或2"x2"的方形基片。加热元件为两组红外灯管，分别安装在腔体的顶端和底部，其升温速率高达20ºC/S 。温控系统为PID30段程序化控制，控温精度为+/-1ºC。仪器面板上带有RS485接口，若仪表内配有控温软件，就可将升温程序和曲线导出.
	GSL-1100X-SPC16-3 等离子3靶溅射仪	GSL-1100X-SPC16-3 等离子3靶溅射仪是一款经过CE认证的紧凑型等离子镀膜机。本机是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，*简单、可靠、经济的镀膜设备。它的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。

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