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产品名称:
500W直流等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2D
产品型号:
VTC-2D
产品展商:
MTI
产品价格:
0.00 元
简单介绍
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜，它是一款物美价廉的实验手。
500W直流等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2D的详细介绍
技术参数
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输入电源
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220VAC 50/60Hz, 单相
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1000W (包括真空泵）
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等离子源
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一个500W，600V的直流电源安装在移动柜内
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磁控溅射头
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一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接
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靶材尺寸: 直径为50mm,*大厚度1.5mm
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一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）
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溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）
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同时可选配1英寸溅射头
    
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真空腔体
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真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作
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密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封
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一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体
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真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵）
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10-5 torr （采涡旋分子泵）
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载样台
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载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热
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载样台尺寸：直径50mm （*大可放置2英寸的基片）
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旋转速度：1 - 10 rpm
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样品的*高加热温度为700℃，控温精度+/- 1.0℃
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真空泵
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可选用直联式双极旋片泵,也可选用德国制作的分子泵系统
 
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薄膜测厚仪
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一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å
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LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
 
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外形尺寸
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质保和质量认证
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使用注意事项
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为了得到较好的金属膜，特别是针对易氧化的金属，如Al, Mg和Li等，必须通入高纯惰性气体（> 5N）
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强烈建议采用PPM极的气体净化系统（将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内）
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我们也可在设备中安装射频(RF)电源，用于溅射非导电靶材，来制备非金属薄膜
 
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