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產品名稱:
5英寸近距離蒸發鍍膜爐
產品型號:
OTF-1200X-RTP-II-5
產品展商:
MTI
產品價格:
0.00 元
簡單介紹
OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發鍍膜爐是一款快速熱處理爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗,其鍍膜面積可達到5"x5"。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),*大升溫速率為20ºC/s 。采用PID方式進行溫度調節,可設置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口,可配用控
5英寸近距離蒸發鍍膜爐的詳細介紹
5英寸近距離蒸發鍍膜爐技術參數
電壓
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輸入:208 - 240VAC, 20 A, 50/60 Hz, 單相 ( < 3200W )
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輸出: 0 - 8VAC (可調)*大電流: 400A
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*大功率:4000W(包括真空泵)
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真空腔體
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不銹鋼腔體:280mm ID. x 375 mm H,腔體內壁做了電拋光處理
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有兩個40mm的觀察窗口(采用無氧銅密封圈密封)
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一個RF-150法蘭,便于放入樣品。
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一個CF150法蘭,可與真空泵相連接
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一個CF-16法蘭
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七個CF-36法蘭,便于安裝真空計、電極和其他用途備用
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真空泵
(點擊圖片查看詳細資料)
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儀器中包括一臺高抽速的渦輪分子泵
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抽速:600L/S
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真空度:5.0x10-6 torr(泵開啟后40分鐘)
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極限真空度:5.0x10-7 torr(烘烤溫度為100-150℃)
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漏氣率:5.0x10-7Pa./S
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蒸發加熱源 樣品臺
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5個水冷電極安裝在腔體底部,可支持4個鎢加熱舟
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每個鎢舟上面安裝有可移動的擋板,所以實驗時可以實現多源共蒸發,也可實現順序蒸發
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樣品臺安裝在真空腔體頂部,直徑為260mm
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蒸發源與樣品臺的距離為300mm
  
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測厚儀
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一個高分辨度的薄膜測厚儀安裝在腔體內部
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測量精度為:1.0Å
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循環水冷機
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儀器使用過程中需要通冷卻水,為了節約用水,強烈建議使用循環水冷機
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所需水流量>15L/min
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控制單元
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真空、厚度和輸入電源控制全部集合在一個控制盒內
控制單元和真空腔體獨立分開,以便于操作
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外形尺寸
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L600mm× W860mm× H1500mm
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凈重
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600kg
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質保
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一年質保期,終生維護
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質量認證
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CE認證
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