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高真空鍍膜機
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5英寸近距離蒸發鍍膜爐
OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發鍍膜爐是一款快速熱處理爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗,其鍍膜面積可達到5"x5"。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),*大升溫速率為20ºC/s 。采用PID方式進行溫度調節,可設置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口,可配用控
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