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TEM氧化硅窗口
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TEM氧化硅窗口
产品资料
TEM氧化硅窗口
如果您对该产品感兴趣的话,可以
产品名称:
TEM氧化硅窗口
产品型号:
SO
产品展商:
其它品牌
产品文档:
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简单介绍
TEM氧化硅窗口与氮化硅薄膜窗格比较: 相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,则会与样本造成混淆。 TEM氧化硅窗口特点: 清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量; 均匀性:减少了不同区域的不均匀性; 稳定性: 耐高温,>1000℃; 良好的化学稳定性:图像分辨率和机械强度达到理想的平衡; 化学计量比的SiO2:可用于氮气环境下的EDX分析;
产品描述
TEM
氧化硅窗口
氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较:
相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,则会与样本造成混淆。
样本安置面:
对多数用户来说,样本应安置在薄膜窗格的“覆膜面”而非“蚀坑面”。但我们也知道在一些特殊情况下,蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜(AFM)观测外,蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上,没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内“看清”薄膜表面。
产品规格:
TEM氧化硅窗口特点:
清洗:
采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量;
均匀性:
减少了不同区域的不均匀性;
稳定性:
耐高温,>1000℃;
良好的化学稳定性:
图像分辨率和机械强度达到理想的平衡;
化学计量比的
SiO2
:
可用于氮气环境下的EDX分析;
氧化硅薄膜窗规格
窗口类型
薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
框架厚度
20nm
2x1阵列,100X1500µm
Φ3mm
200µm
40nm
2x1阵列,100X1500µm
Φ3mm
200µm
20nm
3x3阵列,窗口100X100µm
Φ3mm
200µm
100nm
3x3阵列,窗口100X100µm
Φ3mm
200µm
8nm
窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小70x70µm
Φ3mm
200µm
18nm
窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小60x60µm
Φ3mm
200µm
40nm
窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小50x50µm
Φ3mm
200µm
优点:
SEM应用中,薄膜背景不呈现任何结构和特点。
x-射线显微镜中,装载多个分析样的**方法。
无氮
应用:
氧化硅薄膜应��范围非常广,甚至有时使不可能变为可能,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在):
● 惰性基片可用于高温环境下,通过TEM、SEM或AFM(某些情况下)对反应进行动态观察。
● 作为耐用(如“强力”)基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。
● 作为耐用匹配基片,对AFM和TEM图像进行比较。
● 聚焦离子束(FIB)样本的装载,我们推荐使用多孔薄膜,而非不间断薄膜。
氧化硅薄膜
TEM
网格操作使用:
如果正确操作,氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反,若用工具直接接触薄膜,则会即刻损坏薄膜。为防损坏,可用
尖嘴镊子
小心夹取,就像夹取其他
TEM网格
一样。
使用前清洁:
氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离,并对外框进行打磨,因此这些微小碎片不可避免。尽管如此,我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。
如果用户确实需要对这些碎片进行清理,我们建议用H
2
SO
4
: H
2
O
2
(1:1)溶液清洁有机物,用H
2
O:HCl: H
2
O
2
(5:3:3)溶液清洁金属。
通常不能用超声波清洗器清洁薄膜,因超声波可能使其粉碎性破裂。
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