TEM窗口 - 上海昭沅仪器设备有限公司

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	TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅窗口 SN	应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、背景氮化硅无定形、无特征。 5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。
	TEM用纯Si薄膜窗口 S	TEM用纯Si薄膜窗口特点纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰；清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；均匀性：减少了不同区域的不均匀性；稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous)；减少污染：彩色污染仅为C膜的一半；
	TEM硅框架 S	TEM硅框架 1. 单面镀膜硅片：双面均有50nm氮化硅薄膜； 2. 亲水性硅片：双面均有50nm氮化硅薄膜；氮化硅薄膜上还镀有5nm的亲水性氧化铝薄膜； 3. 疏水性硅片：双面均有50nm氮化硅薄膜；氮化硅薄膜上还镀有5nm的疏水性薄膜； 4. 普通硅片：Si基底，厚度：200µm，框架Ø3mm； TEM硅框架
	TEM无膜硅窗口 S	TEM无膜硅窗口单窗口：0.25x0.25mm, 0.5x0.5mm, 0.75x0.75mm, 1x1mm, 0.5x1.5mm 双窗口：0.1x1.5mm；9窗口：0.1x0.1mm 窗口倾角：35.26°；框架：Si，Ø3mm 表面：正面无膜，背面镀有50nm的氮化硅薄膜
	TEM氧化硅窗口 SO	TEM氧化硅窗口与氮化硅薄膜窗格比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 TEM氧化硅窗口特点：清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；均匀性：减少了不同区域的不均匀性；稳定性：耐高温，>1000℃；良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析；
	TEM多孔氮化硅窗口 SN	TEM多孔氮化硅窗口特点 ● 相对大的实验区域； ● 增加了薄膜的弹性； ● 孔的尺寸适合实验要求； ● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的；上海昭沅专业提供各种TEM窗口，样品支持膜。欢迎来电咨询：021-60512125；021-35359028；021-35359029； admin@instsun.com
	TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口 SN	TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口技术参数：亲水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的亲水涂层疏水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的疏水涂层
	TEM氮化硅窗口 SN	透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口与X射线用氮化硅窗口类似，TEM氮化硅窗口也采用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时RISUN也定制多孔氮化硅薄膜窗口。上海昭沅提供各种规格TEM氮化硅窗口。

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