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上海昭沅仪器设备有限公司
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产品简单介绍
TEM用氮化硅薄膜窗口 氮化硅窗口
SN
应用简介: 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、大窗口尺寸,适合TEM大角度转动观察。 3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、背景氮化硅无定形、无特征。 5、耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,(薄膜直接沉积在窗口上)。
TEM用纯Si薄膜窗口
S
TEM用纯Si薄膜窗口特点 纳米级厚度:薄膜厚度为5-15nm,比目前无定形碳薄膜窗口还薄,为高倍成像减少了背景干扰; 清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量; 均匀性:减少了不同区域的不均匀性; 稳定性:高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous); 减少污染:彩色污染仅为C膜的一半;
TEM硅框架
S
TEM硅框架 1. 单面镀膜硅片:双面均有50nm氮化硅薄膜; 2. 亲水性硅片:双面均有50nm氮化硅薄膜;氮化硅薄膜上还镀有5nm的亲水性氧化铝薄膜; 3. 疏水性硅片:双面均有50nm氮化硅薄膜;氮化硅薄膜上还镀有5nm的疏水性薄膜; 4. 普通硅片:Si基底,厚度:200µm,框架Ø3mm; TEM硅框架
TEM无膜硅窗口
S
TEM无膜硅窗口 单窗口:0.25x0.25mm, 0.5x0.5mm, 0.75x0.75mm, 1x1mm, 0.5x1.5mm 双窗口:0.1x1.5mm;9窗口:0.1x0.1mm 窗口倾角:35.26°; 框架:Si,Ø3mm 表面:正面无膜,背面镀有50nm的氮化硅薄膜
TEM氧化硅窗口
SO
TEM氧化硅窗口与氮化硅薄膜窗格比较: 相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,则会与样本造成混淆。 TEM氧化硅窗口特点: 清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量; 均匀性:减少了不同区域的不均匀性; 稳定性: 耐高温,>1000℃; 良好的化学稳定性:图像分辨率和机械强度达到理想的平衡; 化学计量比的SiO2:可用于氮气环境下的EDX分析;
TEM多孔氮化硅窗口
SN
TEM多孔氮化硅窗口特点 ● 相对大的实验区域; ● 增加了薄膜的弹性; ● 孔的尺寸适合实验要求; ● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的; 上海昭沅专业提供各种TEM窗口,样品支持膜。 欢迎来电咨询:021-60512125;021-35359028;021-35359029; admin@instsun.com
TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口
SN
TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口 技术参数: 亲水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的亲水涂层 疏水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的疏水涂层
TEM氮化硅窗口
SN
透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口 与X射线用氮化硅窗口类似,TEM氮化硅窗口也采用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小,适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时RISUN也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 上海昭沅提供各种规格TEM氮化硅窗口。
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