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产品资料

K575X 电制冷型高真空溅射镀膜仪

K575X 电制冷型高真空溅射镀膜仪
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  • 产品名称:K575X 电制冷型高真空溅射镀膜仪
  • 产品型号:K575X
  • 产品展商:其他品牌
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简单介绍
英国Quorum/Emitech公司的K575X使用“涡轮”泵,前级为旋片式机械泵,整个抽真空过程为自动控制。 真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。 本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。 溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。 溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。 K57
产品描述
英国Quorum/Emitech公司的K575X使用“涡轮”泵,前级为旋片式机械泵,整个抽真空过程为自动控制。
真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。
本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。
溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。
溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。
K575d(双头)其它与K575X相同,只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时,不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。
注:K575d技术规格与K575X相同,但它具有两头。K575X具有peltier制冷,对于比较厚的沉积,通常用K575d(双头)单元,它也不需要用水冷却。
特点

● 全自动控制
● Peltier冷却溅射头
● 精细镀层(0.5nm Cr粒子)
● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置
● 薄膜沉积(典型为5nm)
● 直径为165mm腔室
● 可选双溅射头
● 可接膜厚测控仪

优点

● 可溅射易氧化金属精细颗粒,如:铬或铱
● 易操作
● 无需水冷却
● 超高分辨率,可复制涂层
● 适应各种样品
● 重复膜厚沉积
● 样品容易装载和卸载
● 不需要打开真空即可进行顺序涂层
● 沉积厚度可预设

技术规格

仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H
工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
**钟罩:聚碳酸酯
基座: 110 mm直径x 115mm高
重量:42公斤
靶:54 mm 直径 x 0.2mm 厚(铬作为标准靶材)
样品台:60mm直径,具有倾斜功能的旋转台
真空范围:ATM-1x10-5 mbar
操作真空:1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar
溅射电流:0-150mA
沉积速率:0-20nm/分
溅射定时: 0-4 分钟
涡轮分子泵:60 litres/Second (极限真空 1x10-8 mbar)
Services - Argon - Nominal 10 psi;
Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
电源:230 伏 50Hz(包括泵*大电流为6安培)
115 伏 60Hz(包括泵*大电流为12安培) 
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