电镜制样设备 - 南京覃思科技有限公司

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	英国Quorum/Polaron的SC7620离子溅射镀膜仪 SC7620	英国Quorum/Emitech的SC7620是一台结构紧凑、价格低廉的磁控离子溅射镀膜仪。如与镀碳附件(CA7625F)结合使用，为理想的低价位扫描电镜溅射、镀碳系统。SC7620耐用、易操作且质保期可免费延长至3年。 SC7620适合预算有限、需要高质量镀膜、仪器易操作的用户。对于常规应用, SC7620具有φ100㎜(4″)的玻璃腔室，使用磁控溅射头，带有易更换的圆片靶（标配为金/钯合金）
	英国QUORUM紧凑型高真空镀膜仪E6500 E6500	E6500高真空镀膜仪具有热蒸镀镀膜仪的大工作距离和样品蒸镀角度可调的优点，同时又融入了紧凑模块化的设计，从根本上缩减了传统高真空镀膜仪的外观尺寸，超小型化全新设计，仪器尺寸只有45 x 25 x 40cm大小。70L/秒的分子泵加上前级50L/秒的机械旋转泵，可以在几分钟内达到要求的ATM-10-5mbar量级的真空度。 E6500装备了两个热蒸发源，可以是金属和碳棒，安装在腔体内，很容易更
	英国Quorum/Emitech K650X三靶大样品室离子溅射镀膜仪 Quorum/Emitech K650X	英国Quorum/Emitech K650X具有三个磁控管，可对大样品进行镀膜，样品台可旋转，保证均匀沉积。这种方法可利用标准靶面，不需要特别的大靶面。本系统磁电管靶使用低电压，提高了效率，并且能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供适合的性能价格比。功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，大的“up-ti
	英国Quorum/Emitech K675X三靶溅射大样品镀膜仪 Quorum/Emitech K675X	英国Quorum/Emitech公司的K675X溅射镀膜仪可用于8英寸（200mm）晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台，可进行渐进的椭圆形转动，这样使得溅射沉积更均匀。 K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率，它使用低电压，可得到薄而精细的涂层。在K675X中放置了三个靶面，可镀非常大直径的样品，加上旋转样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特殊的靶面，而用标准标即可。多靶系统在半导
	英国Quorum/Emitech SC3000新型溅射镀膜仪(12英寸) Quorum/Emitech SC3000	英国Quorum/Emitech公司近投放市场的新型台式溅射镀膜仪SC3000，可适合电镜制样和12英寸晶圆快速镀膜等用途。这个新型溅镀系统重要特点和优点在于它紧凑的腔室尺寸、少的抽真空时间和*大的制样产量。这个采用全自动控制的新型系统能够在一次真空条件下顺序溅镀多达三层不同的金属膜，靶材可选菜单有15种预设工作程序的材料，还能自动探测放入的晶圆尺寸如100，150，200或300mm。具
	英国Quorum/Emitech K975X多用途高真空蒸镀镀膜仪 Quorum/Emitech K975X	英国Quorum/Emitech公司的K975X涡轮高真空蒸镀仪是一个多用途系统，它具有灵活性和模块化扩展功能，以适应不同的样品制备。它可从蒸篮和坩锅进行碳蒸发、金属蒸发并且可选溅射附件。 K975X可应用一系列成熟技术，包括镀碳及TEM覆形，碳/金属蒸发、低角度Shadowing和通过使用双源蒸发进行顺序涂层，可选的溅射镀膜附件能适用于各种靶材。通过使用微处理控制器，更增强了系统的灵活
	英国Quorum/Emitech K1050X射频等离子刻蚀系统 Quorum/Emitech K1050X	英国Quorum/Emitech公司的K1050X等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成，同时两种处**体流量针阀监控，全部或部分通气口控制。它的腔室为圆柱形，样品装载为抽屉式抽拉系统，方便使用。真空系统为旋转机械泵或可选用膜片泵作为前级真空的涡轮分子泵。在真空装载端口及SEM/TEM中特殊的清洁应用时，可方便更换抽屉式抽拉系统。此系统通常使用氧及氩的混合气体，氧去除有机物
	英国Quorum/Emitech K850临界点干燥仪（CO2 CPD） Quorum/Emitech K850	英国Quorum/Emitech公司的K850临界点干燥仪（CPD）之所以称为临界点干燥，因为它存在状态的连续性，即介质在液态和气态之间无明显的区别，分界面的表面应力降到零。这种现象具有特定压力时存在一定的温度和压力下，被称为临界点。零表面应力这种条件可用于干燥生物样品，避免了表面应力对试样的损坏。我们在电子显微镜(扫描电镜透射电镜)的生物样品制备时经常需要进行脱水处理，但水的临界点为
	K1250X低温扫描电镜冷冻制样传输系统(扫描电镜SEM改造/加装低温冷冻系统) Quorum/Emitech K1250X	英国Quorum/Emitech公司的独立于电镜真空系统之外、自带涡轮分子泵高真空单元的制样系统，具有低温冷冻、镀膜制样、样品传输以及随后的直接观察之先进功能。众所周知，含水样品（如生物样品、食品、石油类样品）一般是在脱水干燥处理后再镀导电膜才能放入电镜观察。由于脱水干燥，观察到的图像有干瘪变形、结构失真等缺陷。那么，怎样才能实现对含水状态下（不用脱水干燥）的样品形貌进行直接观察呢？本系统针对
	英国Quorum/Emitech K750X冷冻干燥仪(Peltier制冷) Quorum/Emitech K750X	英国Quorum/Emitech公司的K750X冷冻干燥仪，采用Peltier热电调温样品台，用旋转机械泵来抽真空。该仪器的冷冻干燥温度能达到-60℃。可备选15℃的水冷装置。温度和定时器时间能够预先设置，干燥过程可自动完成。在干燥过程的*后可使样品达到室温,或者在包埋前进行相继加热。一次性的干燥剂容器放置在制样腔室中，这样可增强水蒸汽的除去效果。真空腔室里还有一个合适的容器，可装液氮“雪
	K25X扫描电镜冷台 Quorum/Emitech K25X	英国Quorum/Emitech公司的K25X扫描电镜冷台是通过Peltier制冷的扫描电镜冷台，尤其用于可变真空和环境扫描电镜中。有些样品在室温下较敏感，容易产生损坏或发生异常。通过冷台可使样品冷却至零度以下，避免样品的损害。冷台放置在现有的扫描电镜样品台上，经过设计，可用于当今各种品牌的SEM。扫描电镜上的冷台具有液体循环进行二次冷却，通过扫描电镜上备用端口与外部热交换单元相连，此热交换器
	K950X 高真空蒸镀仪（喷碳仪） K950X	英国Quorum/Emitech公司的K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜，并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的导电涂层。在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或
	K575X 电制冷型高真空溅射镀膜仪 K575X	英国Quorum/Emitech公司的K575X使用“涡轮”泵，前级为旋片式机械泵，整个抽真空过程为自动控制。真空度可调整，以适应铬或其它易氧化金属，以及金靶等不同材料要求，定时器可设置成不同的溅射时间。本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可快速更换靶材。溅射头用Peltier制冷，可得到高性能、精细颗粒的涂层（无需水冷却）。溅射时参数可预设，包括气体放气电磁阀。 K57
	K450X/K400X碳蒸镀仪(喷碳仪) K450X/K400X	英国Quorum/Emitech公司的K450X可使用数种碳丝在真空下进行镀膜。蒸镀为各个方向，全自动操作系统使得工作时间相对减少，只需5分钟。系统采用低电压，大电流，电极之间放置碳丝。特点 ● 全自动控制 ● 具有倾斜装置的旋转台 ● 自动保护快门 ● 沉积厚度均匀，可使用碳丝或碳棒 ● 微控制器全自动控制，也可选择手动设置参数控制 ● 菜单驱动“用户”键输入 K400X与
	K500X/K550X离子溅射镀膜仪(喷金机) K500X/K550X	英国Quorum/Emitech溅射离子镀膜仪作为世界制样设备,在电子显微镜(扫描电镜透射电镜)的样品制备领域中应用非常广泛。特点 •低电压溅射 •高分辨率精细涂层(金颗粒达2 nm) •均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为20nm 或200A) •165 mm(6英寸)腔室 •无需冷却样品台 •的再次涂层

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