TCD-HP-H2-O2低功耗快速响应氧中氢传感器
-电解水制氢应用
在电解水制氢气过程中，氧中氢传感器是确保系统安 全性和效率的关键设备，主要用于监测电解槽氧气侧产物中残留的氢气浓度。氢气安 全监测和膜新能研究工艺优化与效率提升是其具体应用和重要性。TCD-HP-H2-O2热导式氧中氢传感器是采用MEMS技术设计，通过直接物理方法测量气体热导率方式运行，不需要参考气。氢气传感器没有采用传统的大功率的恒温气室设计，而采用独特温度补偿的算法，可在-40℃~+60℃下保证测量准确度和重复性，且波动性很小。传感器功耗只有0.6W，是传统的热导原理传感器的1/20。TCD-HP-H2-O2氧中氢传感器同时对被测气体中湿度进行修正，背景噪音在±50ppm，测量达到±1%FS测量精度。
TCD-HP-H2-O2采用的专有的精密的电路设计， 极快响应时间，T90，只有3秒（@1L/分钟），达到读数稳定的时间T100为8秒，而传统的热导传感器需要30~50秒。传感器无需传统的加热恒温的等待（至少30分钟加热等待时间），从开机到测量工作结束大约需要在10分钟内完成，极大地提高了测量效率。
TCD-HP-H2-O2氧中氢传感器采用防爆设计，-40~+60℃温度补偿，无需加热恒温等待，耐压10bar，24VDC供电，4-20mA输出，两端气路接口1/8卡套，带湿度补偿，即使干燥剂逐渐失效，不影响测试精度。上图方向是正面安装，此时传感器芯片朝下。少量冷凝液态水或者其它的重力物颗粒物不会沉积在传感器芯片上，芯片不会被损坏或污染。
氧中氢传感器产品特点：
l 超快速响应，T90约3秒
l *小量程：0-5000 ppm H2/N2或H2/O2
l 功耗小，约0.6W
l 温度补偿并输出，无需加热恒温并等待。
l 温度补偿并输出，湿度对测量影响小。
l 流量补偿热导芯片设计，流量对测量影响小
l 背景噪音小，约±50ppm
l 同时测量氢气(H2)浓度、相对湿度（RH）和温度三个参数
l 8-10年长寿命，低维护
l 长期漂移小，通常只需零点校准，无需量程校准
l *大耐压：10 bar绝压
三、氧中氢传感器技术参数
1、一般特性
测量参数
氢气H2、相对湿度RH和温度T
测量原理
MEMS热导式
测量范围
H2：0-100%Vol.
湿度：0-100%RH
温度：-50~+90℃
尺寸
75 (长)x 36(宽)x 25 mm(高)
气路连接
1/8卡套
外形尺寸
70 mm x 52 mm x 66 mm
耐压
10 bar绝压
安装
4个M5螺钉
重量
550g
2、技术参数
线性误差
H2：±1%FS
RH: ±2% RH
T: ±1.5℃
流量
0.1~1.0L/min,校准流量 0.25L/min,
响应时间
T90：3s (@1000mL/min)
读数稳定时间T100：8s (@1000mL/min)
重复性（相对标准偏差）
±1%FS
*小检出限
0.03%FS
分辨率
0.001%
长期稳定性（零点）
≤±1%FS/年
长期稳定性（量程）
3、电气特性
供电电压
24VDC ±5%
工作电流
0.6W @24VDC，取决于外接负载
输出信号
4~20 mA
启动时间
0.3秒，无需加热恒温等待
数据更新速率
3 Hz
平均值滤波
可设置，off,2,4,6,8,16
4、环境条件：
补偿温度
-40~+85℃
工作湿度
0%~95%RH(无结露)
储存温度
*：以上典型值是基于（101.3kPa,25℃，0.5L/min流量下的无结露的洁净气体）环境下测得。
5、背景噪音曲线：
背景噪音小，约±50ppm
6、温度和湿度影响曲线：
在85℃+20%RH(130000PPM H2O湿度下)氢气的变化为-0.03% H2(-3000PPM)左右
京公网安备 11010202007644号
