高温炉（马弗炉）

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安捷来国际股份（香港）有限公司
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洁净干燥箱 | 惰性气体干燥箱 | 干燥箱 | 多用途热处理装置 | 管式炉 | 箱式炉

产品图片	产品名称/型号	产品简单介绍
	KBF1700℃系列箱式炉 KBF314N1，KBF524N1，KBF624N1	KBF1700℃系列箱式炉 2シャンク90゜ベント構造の二珪化モリブデン��ータを採用長寿命で熱ロスの低減が可能扉開閉リミットスイッチを標準装備プログラマは19パターンの高性能
	KBF1150℃系列箱式炉 KBF748N1,KBF794N1,KBF728N1,KBF848N1,KBF894N1,KBF82	KBF1150℃系列箱式炉温度制御はプログラマ(3機種)/温度調節計(3機種)をラインアップ発熱効率に優れたモルダサームLGOヒータ※を採用全機種に排気ポートを標準装備 100V機種もラインアップ(KBF748N1/KBF848N1) 扉開閉リミットスイッチを標準装備
	KTF1700℃管式炉（1个控制区） KTF434N1	KTF1700℃管式炉（1个控制区） 2シャンク90°ベント構造の二珪化モリブデンヒータを採用（弊社独自のヒータ形状）操作部と炉体を一体化したコンパクトタイプの管状炉過熱防止計を標準装備
	KTF1500℃管式炉（1个控制区） KTF433N1	KTF1500℃管式炉（1个控制区）ヒータは炭化珪素発熱体を採用操作部と炉体を一体化したコンパクトタイプの管状炉過熱防止計を標準装備
	KTF1200℃系列管式炉（3个控制区） KTF347N1，KTF647N1	KTF1200℃系列管式炉（3个控制区） KTF1100℃シリーズ(3ゾーン制御)をよりグレードアップ当社独自の半割式のモルダサームヒータ※を採用 3ゾーン個別制御で高精度に炉内温度をコントロール過熱防止計を3ゾーンのすべてに採用より高精度な処理が要求される試作研究、開発に*適
	KTF1100℃系列管式炉（3个控制区） KTF453N1，KTF773N1	KTF1100℃系列管式炉（3个控制区）熱ロスの少ない円筒型のモルダサームヒータ※を採用 3ゾーン個別制御で高精度に炉内温度をコントロール過熱防止計はセンターのみ標準装備
	KTF1100℃系列管式炉（1个控制区） KTF030N1,KTF040N1,KTF050N1,KTF035N1,KTF045N1,KTF05	KTF1100℃系列管式炉（1个控制区）コストパフォーマンスに優れた実験・開発向けのスタンダードタイプチューブセットのしやすい半割式ヒータを採用、ヒータは当社独自のモルダサームヒータ※を使用温度制御はプログラマ/温度調節計を選択可能 100V機種もラインアップ(KTF030N1/KTF035N1) 過熱防止計、リミットスイッチ標準装備の安全設計
	高温箱式炉 KB8610N-VP，KB9814N-VP	高温箱式炉あらゆる雰囲気下での処理が可能コンパクトタイプ優れた操作性
	小型输送炉 810A	小型输送炉多品種、小ロット生産に*適雰囲気下で連続処理が可能各カバー類のワンタッチ開閉によるメンテナンス性の向上耐熱構造のマッフル採用タッチパネル化ウィークリータイマ標準搭載
	床型箱式炉 μBF	床型箱式炉: 各種雰囲気下での加熱処理が可能還元雰囲気下での対応も可能ヒータのメンテナンス性が良好豊富なオプションを備える
	超高温干燥箱UTO系列 UTO-6C，UTO-15C，UTO-21C，UTO-51N1，UTO-100N1	超高温干燥箱UTO系列セラミックファイバーによる断熱方式でより優れた断熱性を発揮し、装置のコンパクト化に成功ヒータはメンテナンス性を考慮し、プラグ方式を採用、保守・点検が容易ワンパスエア排気機構により、冷却時間が自然冷却に比べ大幅に短縮
	KLO实验室系列干燥箱 KLO-30M，KLO-45M，KLO-60M	KLO实验室系列干燥箱強制対流方式で均一な温度分布昇温60分、降温90分の素早い昇降温 (RT+20⇔200℃) 4タイプの運転機能を保持使いやすい温度調節計定値運転やプログラム運転などの4タイプの運転が可能セグメント表示ランプと状態表示バーにより、運転表示を一目で確認
	高温惰性气体干燥箱INH系列 INH-9CD，INH-21CD，INH-51CD，INH-100CD	高温惰性气体干燥箱INH系列 Cool-down from 600 to 100 deg-C within 150 min (INH-21CD) Air tight with oil seal and door seal Lots of field results for ceramics and glass substrate
	洁净干燥箱CLH系列 CLH-21CD(Ⅲ)，CLH-21CDH(Ⅲ)，CLH-21CD(Ⅴ)，CLH-35CD(Ⅲ)，C	洁净干燥箱CLH系列 Excellent heat efficiency and temperature uniformity The best for semiconductor wafers and glass substrate Inert gas introduction available

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