MDA-400M型紫外曝光机光刻机维思特科仪有限公司

简单介绍

MYCRO韩国制造的紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。

产品描述

系统组件：

紫外光源构造

带托盘的晶片工作台

配CCD镜头的显微镜

监视器

掩膜夹具

紫外光源透镜

紫外光源镜片

紫外灯电源系统

操作控制器

350W紫外灯

参数：

晶片台

基底尺寸标准尺寸 *大至4英寸；可选*大至6英寸；

托盘标准尺寸 *大至4英寸；可选*大至6英寸；

活动范围

X：10mm Y： 10mm Z ： 10mm Theta： 4 degree

对准精度 1um

挤入补偿 Air bearing型

Z轴滑动手动

真空泵无油真空泵

掩膜台

掩膜夹具类型真空吸附和机械夹取

紫外光源

紫外灯 350 瓦

均匀光束大小 4.25“ X 4.25“

曝光模式压缩/真空/相邻

曝光时间控制可编程控制型

曝光定时器 1 ~ 999.9 秒

需要更详细的咨询，请与内地营销服务中心邓先生，刘先生联系

Tel:(上海)(武汉) mobile:0 QQ:7155874 Email:aaron_deng@126.com,aaron_deng@mycro.com.cn MSN:aaron_deng@hotmail.com aaron_deng@kobuyonline.com

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