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功能齐全 重庆内藤销售 SF-3 光谱干涉式晶圆测厚仪 OTSUKA大塚電子
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功能齐全 重庆内藤销售 SF-3 光谱干涉式晶圆测厚仪 OTSUKA大塚電子
产品资料
功能齐全 重庆内藤销售 SF-3 光谱干涉式晶圆测厚仪 OTSUKA大塚電子
如果您对该产品感兴趣的话,可以
产品名称:
功能齐全 重庆内藤销售 SF-3 光谱干涉式晶圆测厚仪 OTSUKA大塚電子
产品型号:
SF-3
产品展商:
OTSUKA大塚電子
产品文档:
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简单介绍
配备原装分析引擎 功能齐全 重庆内藤销售 SF-3 光谱干涉式晶圆测厚仪 OTSUKA大塚電子 采用独特的厚度测量*佳分析算法 功能齐全 重庆内藤销售 SF-3 光谱干涉式晶圆测厚仪 OTSUKA大塚電子 厚度分布可以自动映射
产品描述
特点
厚度可以通过光学方法非接触式/非破坏式地测量
频谱分析后进行调节
抛光监控可以实时高速进行
测量中间层,如保护膜,窗口材料是可能的
多层厚度分析
配备原装分析引擎(正在申请**)
采用独特的厚度测量*佳分析算法?(**)
厚度分布可以自动映射
(详情请咨询TEL: QQ;1280713150 白先生)
测量项目
薄膜厚度分析(5层)
应用程序使用
硅元件厚度的评估
研磨评估硅和化合物半导体
1.3毫米新一代450毫米晶圆
775微米300毫米晶圆
TSV晶圆(测量通孔上的Si膜和Si层膜)
也适用于硅晶片以外的材料广泛适用(SiO
2
,树脂薄膜)
产品规格
模型
SF-3
厚度测量范围
0.1μm至10μm,15μm至1000μm,10μm至775μm
*
,50μm至1600μm*
重复性
0.01%以下
测量时间
*快200μs(5 kHz)
测量光源
半导体光源
测量直径
*小φ6μm
WD
取决于10毫米或更多的任意距离
维
123(W)×224(D)×128(H)mm(不包括突起)
设备配置
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