光谱范围:200～1100nm 光学解析度:1.0nm（半*大值全波） 数字/模拟转换器:14 bit 数字输入/输出:8 x TTL 模拟输出:4 x [0-10V] 连接方式:USB 1.1 转换电源:12V直流电，1.25A 电源需求: 90～240V交流电，50/60Hz 尺寸:257 mm x 152 mm x 263 mm 重量: 5 kg
1.0nm（半*大值全波）光学解析度 200～1100nm波长范围 快速建立和保存实验方法 调制步骤编辑 调制步骤编辑工具可以使用户简单、快速地设置、建立和保存实验方法。利用该工具可以对多数复杂的等离子体过程建立简便而有效的步骤设置：例如测量薄膜沉积情况、监测等离子蚀刻、检查表面清洁处理、分析等离子室健康控制情况、监测反常的污染和排放现象等。 用于简单的等离子体诊断的多重工具 此监控器配有操作软件，所提供的完整的公式编辑器可以进行所有需要的数学和算法功能。我们同时提供一个可选配的放射波长数据库，可以另外单独购买，它能够提供种类的鉴定；而波长编辑器则使用户完成信噪比的优化。操作界面包含两个窗口，可以同时显示真实的光谱和所有控制过程信息。
测量用等离子体的发射可在仅3毫秒内达到200～1100nm的波长。此监控器为数据的获取提供**过程控制和精密的数据运算. Applications - Film deposition - Plasma etching - Surface cleaning - Quality control - Closed-loop control - plasma chamber health control - Protection coating - Pulsed magnetron sputtering: crystalline aluminum coatings - monitoring the endpoint when blanket polysilicon (100% Si loading) is being plagiarized - monitoring the recess depth while plugs are being recessed (<10% Si loading) - Precise endpoint control - Control of abnormal process phenomena, (pollution, discharge) - easy but complete optimization of new processes - Use to capacity of chamber and decrease number of monitor samples (wafers) by optimization of Cleaning Cycles