多通道質量控制高真空PECVD管式爐系統

產品型號：

PECVD-等離子體增強化學氣相沉積法

為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）

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          該產品符合含采購商OHSMS18000職業**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產品的人員健康造成傷害！

輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm³

電子氣溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍

雖環境溫度在100-300℃，但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解，離解和離化，從而大大提高了反應物的活性。

因此，這些具有反應活性的中性物質很容易被吸附到較次溫度的基本表面上，發生非平衡的化學反應沉積生成薄膜。

科晶公司提供定制的薄膜材料的實驗室質量可靠、價格合理的緊湊型PECVD系統。

下圖顯示的是PECVD法用500V交流等離子體與OTF1200X50、7通道精密質量流量計和高真空系統氣體組成

OTF-1200X開啟式管式爐，工作溫度高達1200℃                  化學氣相沉積系統的組成圖

 技術參數：

• 開啟式管式爐

工作溫度：1200℃

爐管尺寸：Φ50，Φ60，Φ80都可用

溫度控制器：30段高精度數字可編程溫度控制器

加熱區長度：440mm

恒溫區長度：150mm

功率：AC 220V 4KW

• 等離子射頻電源

輸出功率：50-500W*大可調±1%的穩定性

RF頻率：2-150MHz的±0.005%穩定可調

噪聲：≤55DB

冷卻：空氣冷卻

輸入功率：1KW  AC 220V

• 真空泵和閥門

采用KF25系列波紋管和精密球閥連接

真空度可達10^-3torr

數字真空壓力表可直觀的顯示數值

• 質量流量計

1. 內部裝有高精度數字顯示質量流量計可準確的控制氣體流量
2. 氣體流量范圍為0-200 誤差為0.02%
3. 一個氣體攪拌罐上安裝了液體釋放閥的底部情況
4. 不銹鋼針閥安裝在左側可手動控制混合氣體輸入的數量
5. 進氣口：采用國際標準雙卡套接頭

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爐體：550*380*520mm

供氣及真空系統：600*600*597mm

凈重：120KG