深圳市科晶智達科技有限公司
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化學氣相沉積設備(CVD、PECVD、LPCVD等
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產品簡單介紹
帶有預熱系統的滑動PECVD
OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PE-CVD管式爐系統,組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐,預熱爐(作用為使固體原料蒸發)和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。
1700℃單溫區三通道混氣CVD系統
GSL-1700X-F3LV是一款CE認證的管式爐CVD系統,其真空泵采用雙旋片式,混氣系統采用三路浮子供氣系統,*高溫度可以達到1700°C,真空度可達到5x10-2 torr ,可以混合1-3種氣體。
三溫區三通道混氣CVD系統
三溫區三通道混氣CVD系統是一款通過CE認證的三溫區管式爐CVD系統,其爐管直徑為60mm,其真空泵采用雙旋機械泵,混氣系統為3路浮子混氣系統。此高溫爐燒結溫度可達1700℃,真空度可達到5x10-2 torr ,可以混合1-3種氣體。
九通道混氣高真空CVD系統
九通道混氣高真空CVD系統GSL-1700X-80-HVC9 is CE certified 80mm diameter alumina tube furnace with vacuum pump system (up to 10-5 torr) and 9 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases f
1700°C二通道混氣高真空CVD系統-GSL-1700X-4-HVC
GSL-1700X-4-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統,其爐管直徑為4英寸,它是由二路質子混氣系統和高真空機組組成,其*高工作溫度可達1600℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr。混氣系統可以對兩種氣體進行**的混氣,然后導入到管式爐內部。
多通道質量控制高真空PECVD管式爐系統
為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD) 我公司供應的產品符合國家有關環保法律法規的規定(含采購商ISO14000環境體系的要求),不會造成環境污染; 該產品符合含采購商OHSMS18000職業**健康管理體系標準的要求,不會對接觸產品的人員健康造成傷害!
1200℃Mini型 2通道CVD系統
OTF-1200X-S50-2F迷你型CVD管式爐,是一款通過CE認證的可開啟式管式爐,能使樣品加熱到1200℃。左法蘭上安裝一個數字式真空顯示計,右法蘭上安裝有一KF-25接口,可以與機械泵相連接(抽速為226L/m)。同時左法蘭上安裝有φ6.35的卡套接頭,使得爐體可與兩路混氣系統相連接。精-確的控溫系統提供30段升溫和降溫程序,其控溫精-確度為+/- 1 ℃ 。
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