EBPG5200 Series **电子束光刻系统
EBPG5150 **电子束光刻系统
EBPG5150系列电子束曝光机是非常先进**的电子束曝光机,在全球范围的先进纳米光刻领域，尤其是在GaAs等晶圆级器件的研发和生产领域中得到了广泛的应用。该系列曝光机显著的优势在于超快的曝光速度，非常高的自动化程度，并具备超高的曝光分辨率，外形紧凑美观等，因此非常适用于各种纳米器件的研发及批量生产。EBPG5150系列设备的模块化、可升级的设计原则，使得其可以适应将来更高的应用需求。
产品特点：
高电流密度热场发射电子枪，电压20, 50 ａnd 100kV
样片尺寸：6英寸及以下（EBPG5150），8英寸及以下（EBPG5200）
*小特征尺寸：小于8nm
快速曝光图形发生器：50 or 100MHz
在所有加速电压条件下，可连续变换大写场尺寸至1mm
多用户管理环境，图形用户界面，易学易用
灵活的配置，保证更好地适合应用的需要
更多EBPG**电子束光刻系统介绍，请查看：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=491