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产品资料

EBPG**电子束光刻系统

EBPG**电子束光刻系统
  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:EBPG**电子束光刻系统
  • 产品型号:
  • 产品展商:Raith
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简单介绍
EBPG**电子束光刻系统是非常先进**的电子束曝光机,在全球范围的先进纳米光刻领域,尤其是在GaAs等晶圆级器件的研发和生产领域中得到了广泛的应用。
产品描述
EBPG5200 Series **电子束光刻系统 EBPG5150 **电子束光刻系统

EBPG5200 Series **电子束光刻系统

EBPG5150 **电子束光刻系统

 

EBPG5150系列电子束曝光机是非常先进**的电子束曝光机,在全球范围的先进纳米光刻领域,尤其是在GaAs等晶圆级器件的研发和生产领域中得到了广泛的应用。该系列曝光机显著的优势在于超快的曝光速度,非常高的自动化程度,并具备超高的曝光分辨率,外形紧凑美观等,因此非常适用于各种纳米器件的研发及批量生产。EBPG5150系列设备的模块化、可升级的设计原则,使得其可以适应将来更高的应用需求。

 

产品特点:

 

  • 高电流密度热场发射电子枪,电压20, 50 and 100kV

  • 样片尺寸:6英寸及以下(EBPG5150),8英寸及以下(EBPG5200)

  • *小特征尺寸:小于8nm

  • 快速曝光图形发生器:50 or 100MHz

  • 在所有加速电压条件下,可连续变换大写场尺寸至1mm

  • 多用户管理环境,图形用户界面,易学易用

  • 灵活的配置,保证更好地适合应用的需要



更多EBPG**电子束光刻系统介绍,请查看:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=491
 

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