如果您在寻找一种功能强且价格易承受的解决方案来进行纳米结构的加工和检测，PIONEER Two将是您非常理想选择。与PIONEER相比，PIONEER Two系统在技术参数上有了非常明显的提升，其曝光线宽验收指标小于8纳米, 并具有高分辨成像能力，且资金不需投入太大。若您需要获得专业的电子束曝光功能，并兼顾高分辨的扫描电镜成像功能，PIONEER Two将是满足您需求的**选择。
与扫描电镜集成图形发生器的曝光设备相比，PIONEER Two是完整的电子束曝光成套系统，由一家可信任的制造商提供，且性价比非常高，其**的性能使它适用于广泛的应用领域。PIONEER Two配有专业电子束曝光系统必备的激光干涉工作台，可实现大面积纳米图形的拼接和套刻功能。另外Raith还可提供旋转和倾斜的载片台，可实现普通扫描电镜成像的全部功能。
独特的InLens探测器硬件极大地提高了二次电子的收集效率，可获得更亮的高对比度图像和对标记的识别能力更强。特别是在低电压情况下，这种探测器同样能极好地传递表面信息。
PIONEER Two简单易学，人性化的多用户管理系统避免了使用者互相之间的影响，该功能特别适用于对外开放的纳米加工平台，使用者众多，且技能水平参差不齐，用户可根据个人喜好和习惯设置自己的界面、保存数据等，以方便日后的操作。
PIONEER Two专业的电子束曝光功能使其适用于微纳米加工方面广泛的科研应用：
量子物理，如量子点、量子阱及量子比特等
纳米电子学，如自旋电子学
纳米光子学和集成光学，如缺陷模式光子晶体和量子级联激光器
等离子体光子学
超材料
纳米电子机械系统/微电子机械系统
纳米生物技术或纳米医药器件，如纳米流控、纳米生物传感器、诊断学等
PIONEER Two电子束曝光系统主要性能指标：
束斑尺寸：1.6 nm @20 kV
*小特征尺寸：≤ 8 nm
场拼接：≤ 50 nm (mean+3σ)
套刻精度(对准)： ≤ 50nm (mean+3σ)
激光台运动范围：50x50x25 mm