是研究所和大学的合适的选择：
简单易学，所有级别人员都能使用
多用户管理支持并行获取，对众多用户也可以分配不同的权限
学术研发团队
专业级GDSII设计文件
自动任务列表
科研型器件，硅片，模板制作
纳米服务中心
多项目硅片级曝光
操作速度快
各区域已建立专业的技术服务中心
实现扩展应用
超高分辨率曝光
与光学曝光配合实现混合曝光
先进的器件原型制作
高分辨模板曝光
零拼接制备光学器件
直写模式
超高分辨电子束曝光和超高分辨结果观测的**结合
小于8nm光刻
**的标记识别技术
自动上下料
*大7" 模板 / 8" 硅片处理能力
自动聚焦修正
自动样片调平
独特的零拼接曝光模式（FBMS固定束移动工作台曝光）
**的人性化用户界面
观测模式
超高分辨观测
工艺过程和控制
图形和器件测量
不同的旋转和倾斜角度
直接明了的样品导航能力
更多RAITH150 Two电子束光刻系统介绍，请查看：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=482