TF600由PLC控制. TF600带PLC控制给予研发型客户一套实用且低成本的工具. 工业标准触屏式PLC在沉积工艺时控制真空系统. 工艺控制选件可一键完成多层沉积工艺循环.
TF600由PC控制 TF600可完全由PC控制.PC运行给予Windows的SCADA系统软件. 单一界面完整设置工艺控制程序. 控制系统自动排序且记录蒸发和真空数据的日志.
HHV TF600真空镀膜系统用于研发和生产 HHV TF600的设计在于提高工艺等级.客户可选择低成本PLC控制或完全PC控制. 600mm 宽腔体可选涡轮分子泵或冷凝泵,同时可用于离子束沉积和刻蚀.
凭借 600mm宽的腔室,客户可选择多种沉积模式和蒸发源以达到*大的生产效率.
沉积工艺